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1. (WO2008081828) VERRE COUVRE-OBJET POUR UN DISPOSITIF D'IMAGERIE SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU VERRE COUVRE-OBJET
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/081828    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/074994
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 26.12.2007
CIB :
H01L 27/14 (2006.01), C03C 3/091 (2006.01), C03C 3/093 (2006.01)
Déposants : NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAHORI, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKAWA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YODOGAWA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKAHORI, Hiroaki; (JP).
OKAWA, Daisuke; (JP).
YODOGAWA, Masahiro; (JP)
Mandataire : NAITO, Teruo; Shin-ei Patent Office, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-000793 05.01.2007 JP
Titre (EN) COVER GLASS FOR SOLID STATE IMAGING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE COVER GLASS
(FR) VERRE COUVRE-OBJET POUR UN DISPOSITIF D'IMAGERIE SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU VERRE COUVRE-OBJET
(JA) 固体撮像素子用カバーガラス及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a cover glass for a solid state imaging device, which is less likely to undergo the separation of a covering film provided on the cover glass on its light transparent face, can realize satisfactory bonding area and bonding strength to a substrate, has a high level of mechanical strength and a high level of optical properties, and stable chemical properties, and has a high level of cleanness, and a method for manufacturing the cover glass. A cover glass (10) for a solid state imaging device is characterized in that it comprises a thin sheet formed of an inorganic oxide glass, the thin sheet has two light transparent faces (11, 12) opposed to the sheet thickness direction, a covering film (C1, C2) is provided on at least one of the light transparent faces (11, 12), the outer peripheral end face of the cover glass (10) is formed of faces (13, 14) cut by a laser beam, and the covering film (C1, C2) has been formed before the laser beam cutting. The method for manufacturing the cover glass comprises the step of melting a glass raw material mixture, the step of molding the molten glass into a sheet glass (G), the step of forming a covering film (C1, C2) on at least one of two light transparent faces (11, 12) of the sheet glass (G) (film forming step), the step of applying a laser beam to the sheet glass with the covering film (light application step), and the step of dividing the sheet glass subjected to the laser beam application step into small glass pieces.
(FR)Cette invention propose un verre couvre-objet pour un dispositif d'imagerie semi-conducteur, qui est moins susceptible de subir la séparation d'un film de recouvrement disposé sur le verre couvre-objet sur sa face transparente à la lumière, qui peut réaliser une zone de liaison et une cohésion de liaison à un substrat satisfaisantes, qui a un niveau élevé de résistance mécanique et un niveau élevé de propriétés optiques, et des propriétés chimiques stables, et qui a un niveau élevé de propreté, et un procédé de fabrication du verre couvre-objet. Un verre couvre-objet (10) pour un dispositif d'imagerie semi-conducteur est caractérisé par le fait qu'il comprend une feuille mince formée dans un verre d'oxyde inorganique, la feuille mince a deux faces transparentes à la lumière (11, 12) opposées à la direction de l'épaisseur de la feuille, un film de recouvrement (C1, C2) est disposé sur au moins l'une des faces transparentes à la lumière (11, 12), la phase d'extrémité périphérique externe du verre couvre-objet (10) est formée de faces (13, 14) coupées par un faisceau laser, et le film de recouvrement (C1, C2) a été formé avant la découpe par faisceau laser. Le procédé de fabrication du verre couvre-objet comprend l'étape de fusion d'un mélange de matière première de verre, l'étape de moulage du verre à l'état fondu dans un verre en feuille (G), l'étape de formation d'un film de recouvrement (C1, C2) sur au moins l'une des deux faces transparentes à la lumière (11, 12) du verre en feuille (G) (étape de formation de film), l'étape d'application d'un faisceau laser au verre en feuille avec le film de recouvrement (étape d'application de lumière), et l'étape de division du verre en feuille soumis à l'étape d'application de faisceau laser en petits morceaux de verre.
(JA) カバーガラスの透光面に施された被覆膜が容易に剥離し難く、基板との十分な接着面積と接着強度を実現し、高い機械的強度と高い光学性能、さらに安定した化学的な性能を有する清浄度の高い固体撮像素子用カバーガラス及びその製造方法を提供する。本発明の固体撮像素子用カバーガラス10は、無機酸化物ガラス製の薄板状で、板厚方向に対向する2つの透光面11、12の少なくとも一方の面に被覆膜C1、C2を有し、カバーガラス10の外周端面がレーザーにより切断された面13、14よりなり、被覆膜C1、C2がレーザー切断以前に成膜されてなることを特徴とし、その製造方法は、ガラス原料混合物を溶融する工程と、得られた溶融ガラスを板ガラスGに成形する工程と、該板ガラスGの2つの透光面11、12の少なくとも一方の面に被覆膜C1、C2を形成する成膜工程と、該被覆膜付き板ガラスにレーザーを射出する射出工程と、射出工程後の板ガラスを小片のガラスに分割する工程とを有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)