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1. (WO2008081822) POLYMÈRE POUR RÉSIST, COMPOSITION DE RÉSIST ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT AYANT UN MOTIF FIN FORMÉ SUR CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/081822    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/074974
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 26.12.2007
CIB :
C08F 220/26 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : Mitsubishi Rayon Co., Ltd. [JP/JP]; 6-41, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088506 (JP) (Tous Sauf US).
YASUDA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MOMOSE, Hikaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YASUDA, Atsushi; (JP).
MOMOSE, Hikaru; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-350766 27.12.2006 JP
2007-043981 23.02.2007 JP
Titre (EN) POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCTION OF SUBSTRATE HAVING FINE PATTERN FORMED THEREON
(FR) POLYMÈRE POUR RÉSIST, COMPOSITION DE RÉSIST ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT AYANT UN MOTIF FIN FORMÉ SUR CELUI-CI
(JA) レジスト用重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a polymer (P) for a resist, which has a lactone skeleton (B) or a hydrophilic group (C) and meets the requirements represented by the formula (1) or (2). P[B]/PH[B] ≤ 0.99 (1) P[C]/PH[C] ≤ 0.99 (2) wherein P[B] represents a content of the lactone skeleton in the polymer (P); PH[B] represents a content of a lactone skeleton in a polymer (PH); P[C] represents a content of the hydrophilic group in the polymer (P); PH[C] represents a content of the hydrophilic group in a polymer (PH); the polymer (PH) is a polymer fractionated from the polymer (P) by gel permeation chromatography and has a molecular weight larger than the mass average molecular weight (Mw(P)) of the polymer (P); and the content of the lactone skeleton or the hydrophilic group in a polymer is a ratio of the integrated value of a peak of the lactone skeleton or the hydrophilic group relative to the sum total of the integrated values of all peaks of the polymer as measured by NMR.
(FR)L'invention concerne un polymère (P) pour un résist, qui a un squelette de lactone (B) ou un groupe hydrophile (C) et satisfait les exigences représentées par la formule (1) ou (2). P[B]/PH[B] ≤ 0,99 (1) P[C]/PH[C] ≤ 0,99 (2) où P[B] représente une teneur du squelette de lactone dans le polymère (P) ; PH[B] représente une teneur d'un squelette de lactone dans un polymère (PH) ; P[C] représente une teneur du groupe hydrophile dans le polymère P ; PH[C] représente une teneur du groupe hydrophile dans un polymère (PH) ; le polymère (PH) est un polymère fractionné à partir du polymère (P) par chromatographie par perméation de gel et a une masse moléculaire supérieure à la masse moléculaire moyenne en masse (Mw(P)) du polymère (P) ; et la teneur du squelette de lactone ou du groupe hydrophile dans un polymère est un rapport de la valeur intégrée d'un pic du squelette de lactone ou du groupe hydrophile par rapport à la somme totale des valeurs intégrées de tous les pics du polymère, telles que mesurées par RMN.
(JA) ラクトン骨格(B)または親水性基を(C)を有する重合体(P)であって、 下記(1)式または(2)式を満足するレジスト用重合体 P[B]/P[B]≦0.99・・・(1) P[C]/P[C]≦0.99・・・(2) (P[B]:重合体(P)中のラクトン骨格の含有量率、 P[B]:重合体(P)中のラクトン骨格の含有量率、 P[C]:重合体(P)中の親水性基の含有量率、 P[C]:重合体(P)中の親水性基の含有量率、 重合体(P)は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによって重合体(P)から分取した、重合体(P)の質量平均分子量(Mw(P))よりも分子量の大きい重合体、及び 重合体中のラクトン骨格、親水性基の含有量率は、NMRによって測定した重合体の全ピークの積分値の和に対するラクトン骨格または親水性基のピークの積分値の比率である)。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)