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1. (WO2008081768) ETHER CHLOROMÉTHYL CONTENANT UNE STRUCTURE ALICYCLIQUE, MONOMÈRE POLYMÉRISABLE POUR UNE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/081768    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/074797
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 25.12.2007
CIB :
C07D 307/00 (2006.01), C07D 307/32 (2006.01), C07D 493/18 (2006.01), C08F 20/28 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : IDEMITSU KOSAN CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321 (JP) (Tous Sauf US).
ONO, Hidetoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUMOTO, Nobuaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWANO, Naoya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Shinji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ONO, Hidetoshi; (JP).
MATSUMOTO, Nobuaki; (JP).
KAWANO, Naoya; (JP).
TANAKA, Shinji; (JP)
Mandataire : OHTANI, Tamotsu; OHTANI PATENT OFFICE Bridgestone Toranomon Bldg. 6F., 25-2, Toranomon 3-chome Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-350051 26.12.2006 JP
Titre (EN) ALICYCLIC STRUCTURE-CONTAINING CHLOROMETHYL ETHER, POLYMERIZABLE MONOMER FOR PHOTORESIST, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) ETHER CHLOROMÉTHYL CONTENANT UNE STRUCTURE ALICYCLIQUE, MONOMÈRE POLYMÉRISABLE POUR UNE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 脂環構造含有クロロメチルエーテル類、フォトレジスト用重合性モノマーおよびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a composition for photoresists, namely a photosensitive material for photoresists which enables to improve roughness in a resist having an alkyladamantyl group or a lactone structure. This composition for photoresists contains a polymer which has an alicyclic structure-containing (meth)acrylate ester represented by the general formula (II) below as a constituent. (In the formula, R1 represents a functional group having an alicyclic structure with 4-9 carbon atoms and having at least one ester group or keto group; and R2 represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.)
(FR)L'invention concerne une composition pour des résines photosensibles, à savoir une matière photosensible pour des résines photosensibles qui permet d'améliorer la rugosité dans un résist ayant un groupe alkyladamantyle ou une structure de lactone. Cette composition pour des résines photosensibles contient comme constituant un polymère qui a un ester (méth)acrylate contenant une structure alicyclique représenté par la formule générale (II) ci-après. (Dans la formule, R1 représente un groupe fonctionnel ayant une structure alicyclique avec 4-9 atomes de carbone et ayant au moins un groupe ester ou un groupe céto; et R2 représente un atome d'hydrogène, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle).
(JA) アルキルアダマンチル基やラクトン構造を有するレジストにおいて、ラフネスが改善されたフォトレジスト用感光材料であって、下記一般式(II)で表される脂環構造含有(メタ)アクリル酸エステル類を構成成分として有する重合体を含有したフォトレジスト用組成物である。 (式中、R1は炭素数4~9の脂環式構造でエステル基又はケト基を少なくとも一つ有する官能基、R2は水素原子,メチル基又はトリフルオロメチル基である。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)