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1. (WO2008081227) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR CONCEVOIR UN CIRCUIT INTÉGRÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/081227    N° de la demande internationale :    PCT/IB2007/000538
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 05.01.2007
CIB :
G06F 17/50 (2006.01)
Déposants : FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC. [US/US]; 6501 William Cannon Drive West Austin, Texas 78735 (US) (Tous Sauf US).
STMICROELECTRONICS (CROLLES 2) SAS [FR/FR]; 850 Rue Jean Monnet, F-38920 Crolles (FR) (Tous Sauf US).
RIVIERE-CAZAUX, Lionel J [FR/US]; (US) (US Seulement).
RAJPUT, Ashish [IN/IN]; (IN) (US Seulement)
Inventeurs : RIVIERE-CAZAUX, Lionel J; (US).
RAJPUT, Ashish; (IN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DESIGNING AN INTEGRATED CIRCUIT
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR CONCEVOIR UN CIRCUIT INTÉGRÉ
Abrégé : front page image
(EN)Method and apparatus for designing an integrated circuit, IC, layout by identifying one or more defects in a feature (110, 120) within the IC layout (20). Determining if an identified defect is improvable (30). Calculating an improvability metric of the IC layout based on the number of improvable defects and the total number of identified defects (60).
(FR)La présente invention concerne un appareil et un procédé pour concevoir un dispositif de circuit intégré (IC) en identifiant un ou plusieurs défauts d'une caractéristique (110, 120) dans la mise en place de l'IC (20). L'invention permet de déterminer si un défaut identifié peut être amélioré (30). Elle calcule la mesure de capacité d'amélioration de la disposition de l'IC en fonction du nombre de défauts pouvant être améliorés et du nombre total de défauts identifiés (60).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)