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1. (WO2008080772) STICK ANTITRANSPIRANT SANS TRACES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/080772    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/063652
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 11.12.2007
CIB :
A61Q 15/00 (2006.01), A61K 8/891 (2006.01), A61K 8/81 (2006.01), A61K 8/37 (2006.01), A61K 8/34 (2006.01), A61K 8/04 (2006.01)
Déposants : HENKEL AG & CO. KGAA [DE/DE]; Henkelstr. 67, 40589 Düsseldorf (DE) (Tous Sauf US).
BANOWSKI, Bernhard [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
CLAAS, Marcus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WADLE, Armin [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BANOWSKI, Bernhard; (DE).
CLAAS, Marcus; (DE).
WADLE, Armin; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 062 567.6 29.12.2006 DE
10 2007 059 678.4 10.12.2007 DE
Titre (DE) RÜCKSTANDSARMER ANTITRANSPIRANT-STIFT
(EN) LOW RESIDUE ANTIPERSPIRANT STICK
(FR) STICK ANTITRANSPIRANT SANS TRACES
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft rückstandsarme wasserfreie Antitranspirant-Stifte mit verbesserten Eigenschaften.
(EN)The invention relates to low residue, water free antiperspirant sticks with enhanced properties.
(FR)L'invention concerne des sticks antitranspirants sans traces, anhydres, ayant des propriétés améliorées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)