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1. (WO2008080563) ELÉMENT OPTIQUE ET OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE POUR MICROLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/080563    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/011227
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 20.12.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
GERHARD, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : GERHARD, Michael; (DE)
Mandataire : HOFMANN, Matthias; Königstrasse 2, 90402 Nürnberg (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 061 711.8 28.12.2006 DE
PCT/EP2007/001362 16.02.2007 EP
10 2007 023 411.4 18.05.2007 DE
Titre (EN) OPTICAL ELEMENT AND ILLUMINATION OPTICS FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) ELÉMENT OPTIQUE ET OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)An optical element serves to influence a nominal beam angle, preset over a beam cross-section, of a radiation beam (26) hitting the optical element. The optical element has a spatial optical structure (16) which generates a first part of the influence exerted on the nominal beam angle when exposed to the radiation beam (26). An optical coating (24) applied on the spatial optical structure or on a carrier layer carrying the spatial optical structure (16) causes a defined attenuation of parts of the radiation beam (26) when exposed to the latter, thus resulting in a second part of the influence exerted on the nominal beam angle. The optical effects of the structure (16) and the coating (24) are such that they complement each other in influencing the nominal beam angle. The manufacturing effort required to obtain this effect is quite low. Moreover, this leads to new possibilities in terms of influencing the nominal beam angle.
(FR)Un élément optique sert à influencer un angle nominal de faisceau, préréglé sur une section transversale de faisceau, d'un faisceau de rayonnement (26) atteignant l'élément optique. L'élément optique possède une structure optique spatiale (16) qui génère une première partie de l'influence exercée sur l'angle nominal du faisceau lorsqu'il est exposé au faisceau de rayonnement (26). Un revêtement optique (24) appliqué sur la structure optique spatiale ou sur une couche support supportant la structure optique spatiale (16) provoque une atténuation définie de parties du faisceau de rayonnement lorsqu'il est exposé à ce dernier, conduisant ainsi à une seconde partie de l'influence exercée sur l'angle nominal du faisceau. L'effort de fabrication requis pour l'obtention de cet effet est plutôt faible. De plus, ceci conduit à de nouvelles possibilités en termes d'influence sur l'angle nominal du faisceau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)