WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008080537) OBJECTIF DE PROJECTION POUR LA LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/080537    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/010962
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 13.12.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G02B 27/00 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
CONRADI, Olaf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
JUERGENS, Dirk [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : CONRADI, Olaf; (DE).
JUERGENS, Dirk; (DE)
Mandataire : HEUCKEROTH, Volker; Witte, Weller & Partner, Postfach 105462, 70047 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 062 669.9 29.12.2006 DE
Titre (DE) PROJEKTIONSOBJEKTIV FÜR DIE LITHOGRAPHIE
(EN) LITHOGRAPHIC PROJECTION LENS
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION POUR LA LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(DE)Ein Projektionsobjektiv (10) für die Lithographie weist eine optische Anordnung (30) optischer Elemente (32) entlang einer Lichtausbreitungsrichtung zwischen einer Objektebene (O) und einer Bildebene (B) auf. Die optische Anordnung (30) weist zumindest eine erste Pupillenebene (P1, P2) und zumindest ein erstes und zweites Korrekturelement (38a, b) zu Korrektur thermisch induzierte Abbildungsfehler auf, die jeweils in einem Bereich angeordnet sind, der zur zumindest ersten Pupillenebene (P1, P2) zumindest optisch nah ist.
(EN)Disclosed is a lithographic projection lens (10) comprising an optical array (30) of optical elements (32) between an object plane (O) and an image plane (B) along a direction of diffusion of the light. The optical array (30) has at least one first pupil plane (P1, P2) as well as at least one first and second corrective element (38a, b) for correcting thermally induced optical aberrations, each of which is located in an area that is at least optically close to the at least one first pupil plane (P1, P2).
(FR)L'invention concerne un objectif de projection (10) pour la lithographie, cet objectif comprenant un ensemble optique (30) d'éléments optiques (32) disposés le long d'une direction de diffusion de la lumière entre un plan objet (O) et un plan image (B). L'ensemble optique (30) présente au moins un premier plan pupille (P1, P2) et au moins un premier et un second élément de correction (38a, b) destinés à corriger les erreurs de reproduction d'origine thermique, chacun de ces éléments étant disposé dans une région au moins optiquement proche du ou des premiers plans pupilles (P1, P2).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)