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1. (WO2008080521) FLUIDE D'IMMERSION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MICROPUCES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/080521    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/010871
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 12.12.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : DSM IP ASSETS B.V. [NL/NL]; Het Overloon 1, NL-6411 TE Heerlen (NL) (Tous Sauf US).
JAHROMI, Shahab [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BREMER, Leonardus, Gerardus, Bernardus [NL/BE]; (BE) (US Seulement)
Inventeurs : JAHROMI, Shahab; (NL).
BREMER, Leonardus, Gerardus, Bernardus; (BE)
Mandataire : VAN DER PLOEG, A., M., F., J.; DSM Intellectual Property, P.O. Box 9, NL-6160 MA Geleen (NL)
Données relatives à la priorité :
06026991.7 28.12.2006 EP
60/924,749 30.05.2007 US
Titre (EN) IMMERSION FLUID AND METHOD FOR PRODUCING MICROCHIPS
(FR) FLUIDE D'IMMERSION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MICROPUCES
Abrégé : front page image
(EN)Method for producing microchips by using immersion lithography, wherein the immersion fluid comprises particles with a size of about 9 nm or less, and about 1 nm or more of a metal oxide, nitril or fluoride, wherein the particles have a functionalized surface. The exposure light in the method has improved resolution, so that microchips having an increased integration density are obtained.
(FR)L'invention concerne un procédé pour produire des micropuces à l'aide d'une lithographie par immersion, le fluide d'immersion comportant des particules ayant une taille d'environ 9 nm ou moins, et environ 1 nm ou plus d'un oxyde métallique, du nitrile ou du fluorure, les particules ayant une surface fonctionnalisée. La lumière d'exposition dans le procédé a une résolution améliorée, de telle sorte que des micropuces ayant une densité d'intégration accrue sont obtenues.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)