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1. (WO2008080515) ENSEMBLE D'ÉLÉMENTS POUR CONSTRUIRE UN RÉACTEUR DE PROCESSUS POUR LA RÉALISATION DE COUCHES MÉTALLIQUES SUR UN OU PLUSIEURS SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/080515    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/010739
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 10.12.2007
CIB :
C25D 5/08 (2006.01), C25D 17/00 (2006.01), C25D 17/02 (2006.01), C25D 21/18 (2006.01)
Déposants : RENA SONDERMASCHINEN GMBH [DE/DE]; Ob der Eck 5, 78148 Gütenbach (DE) (Tous Sauf US).
HABERMANN, Dirk [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MÜLLER, Patrik [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
HARTMANNSGRUBER, Ernst [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HABERMANN, Dirk; (DE).
MÜLLER, Patrik; (CH).
HARTMANNSGRUBER, Ernst; (DE)
Mandataire : STÜRKEN, Joachim; Joachim Stürken Patentanwaltsges. mbH, Kirchenhölzle 18, 79104 Freiburg (DE)
Données relatives à la priorité :
06027073.3 29.12.2006 EP
Titre (DE) BAUSATZ ZUR HERSTELLUNG EINES PROZESSREAKTORS FÜR DIE AUSBILDUNG METALLISCHER SCHICHTEN AUF EINEM ODER AUF MEHREREN SUBSTRATEN
(EN) SET FOR CREATING A PROCESS REACTOR FOR FORMING METALLIC LAYERS ON AT LEAST ONE SUBSTRATE
(FR) ENSEMBLE D'ÉLÉMENTS POUR CONSTRUIRE UN RÉACTEUR DE PROCESSUS POUR LA RÉALISATION DE COUCHES MÉTALLIQUES SUR UN OU PLUSIEURS SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft einen Bausatz zur Herstellung eines Prozessreaktors für die Ausbildung metallischer Schichten auf einem oder mehreren Substraten, wobei die Schichten durch Abscheiden von in einem Fluid befindlichen Metallionen auf den Substraten entstehen, wobei der Bausatz im Wesentlichen folgende Bauelemente umfasst: - ein Reaktorgehäuse (3) mit zwei Enden (4; 5), wobei das Innere des Reaktorgehäuses von dem Fluid vom einen zum anderen Ende durchströmbar ist; eine im Bereich der Ausströmung (4) aus dem Reaktorgehäuse (3) angeordnete Einrichtung (6) zur Aufnahme des Substrats; mindestens einen Überlauf (8) im Bereich der Ausströmung (4) aus dem Reaktorgehäuse (3), über den das in Richtung Substrat (2) strömende Fluid (F) aus dem Reaktorgehäuse (3) austreten kann; - einen Auffangbehälter (10) zur Aufnahme des über den Überlauf (8) austretenden Fluids (F); Mittel zur Rückführung des aufgefangenen Fluids in das Reaktorgehäuse (3); sowie mindestens eine Anode, wobei der Prozessreaktor zur Erzielung einer weitgehend gleichmäßigen homogenen Beschichtung ferner wahlweise eines oder mehrere der nachstehenden Bauelemente umfasst: - mindestens eine Strömungseinstelleinrichtung (S) zur gezielten Steuerung des Fluids (F) innerhalb des Reaktorgehäuses (3); mindestens eine Feldeinstelleinrichtung (E) zur gezielten Steuerung des innerhalb des Reaktorgehäuses (3) aufgebauten elektrischen Feldes; - mindestens eine Hilfselektrode (H), die wahlweise ein positives oder negatives Potential annehmen kann und zwischen dem zu beschichtenden Substrat (2) und dem gegenüberliegenden Ende (5) des Reaktorgehäuses (3) angeordnet ist; - mindestens eine Blende (B) zur Ausrichtung des innerhalb des Reaktorgehäuses (3) aufgebauten elektrischen Felds; - mindestens eine Blende (B) zur Ausrichtung der Strömung des Fluids (F) innerhalb des Reaktorgehäuses (3); und mindestens ein Ringelement (R) zur Verkleinerung des Innendurchmessers (3i) des Reaktorgehäuses (3).
(EN)The invention relates to a set for creating a process reactor for forming metallic layers on at least one substrate, the layers being formed by the precipitation of metal ions contained in a fluid onto the substrates. Said set essentially comprises the following structural elements: a reactor housing (3) comprising two ends (4, 5), a fluid flowing through the reactor housing from one end to the other; a device (6) which is arranged in the region of the efflux (4) from the reactor housing (3) and is used to receive the substrate; at least one overflow (8) which is arranged in the region of the efflux (4) from the reactor housing (3) and via which the fluid (F) flowing in the direction of the substrate (2) can flow out of the reactor housing (3); a collecting tank (10) for receiving the fluid (F) flowing out via the overflow (8); means for redirecting the collected fluid into the reactor housing (3); and at least one anode. In order to obtain a largely homogeneous coating, the process reactor also optionally comprises at least one of the following structural elements: at least one flow adjusting device (S) for the targeted control of the fluid (F) inside the reactor housing (3); at least one field adjusting device (E) for the targeted control of the electrical field created inside the reactor housing (3); at least one auxiliary electrode (H) that can receive either a positive or negative potential and is arranged between the substrate (2) to be coated and the opposite end (5) of the reactor housing (3); at least one diaphragm (B) for orienting the electrical field created inside the reactor hosuing (3); at least one diaphragm (B) for orienting the flow of the fluid (F) inside the reactor housing (3); and at least one ring element (R) for reducing the inner diameter (3i) of the reactor housing (3).
(FR)L'invention concerne un ensemble d'éléments servant à construire un réacteur de processus pour la réalisation de couches métalliques sur un ou plusieurs substrats, les couches étant réalisées par dépôt sur les substrats d'ions métalliques se trouvant dans un fluide. L'ensemble d'éléments selon l'invention comprend pratiquement les éléments suivants : - une enveloppe de réacteur (3) présentant deux extrémités (4, 5), l'intérieur de l'enveloppe du réacteur pouvant être traversé d'une extrémité à l'autre par le fluide, un dispositif (6) placé dans la zone de l'écoulement (4) hors de l'enveloppe de réacteur (3) et recevant le substrat, - au moins un déversoir (8) situé dans la zone de l'écoulement (4) hors de l'enveloppe de réacteur (3) et permettant au fluide (F) s'écoulant en direction du substrat (2) de sortir de l'enveloppe (3) du réacteur, - un contenant de récupération (10) recevant le fluide (F) sortant par le biais du déversoir (8), - des moyens pour la réinjection du fluide récupéré dans l'enveloppe (3) du réacteur, - ainsi qu'au moins une anode. Le réacteur de processus comprend en outre, pour l'obtention d'un revêtement homogène largement uniforme, au choix un ou plusieurs des éléments suivants : - au moins un dispositif de réglage d'écoulement (S) pour la commande ciblée du fluide (F) à l'intérieur de l'enveloppe (3) du réacteur, - au moins un dispositif de réglage de champ (E) pour la commande ciblée du champ électrique établi à l'intérieur de l'enveloppe (3) du réacteur, - au moins une électrode auxiliaire (H) qui peut prendre au choix un potentiel positif ou négatif et qui est placée entre le substrat (2) à revêtir et l'extrémité opposée (5) de l'enveloppe (3) du réacteur, - au moins un obturateur (B) servant à orienter le champ électrique établi à l'intérieur de l'enveloppe (3) du réacteur, - au moins un obturateur (B) servant à orienter l'écoulement de fluide (F) à l'intérieur de l'enveloppe (3) du réacteur, - ainsi qu'au moins un élément annulaire (R) servant à réduire le diamètre interne (3i) de l'enveloppe (3) du réacteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)