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1. (WO2008079242) NANOPARTICULES DE SILICE CREUSES AINSI QUE LEURS PROCÉDÉS DE SYNTHÈSE ET LEURS APPLICATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/079242    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/025966
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 18.12.2007
CIB :
C01B 37/02 (2006.01), B82B 1/00 (2006.01)
Déposants : NANOGRAM CORPORATION [US/US]; 165 Topaz Street, Milpitas, CA 95035 (US) (Tous Sauf US).
LI, Weidong [CN/US]; (US) (US Seulement).
CHIRUVOLU, Shivkumar [US/US]; (US) (US Seulement).
DU, Hui, K. [CN/US]; (US) (US Seulement).
ALTMAN, Igor [UA/US]; (US) (US Seulement).
MOSSO, Ronald, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
KAMBE, Nobuyuki [JP/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LI, Weidong; (US).
CHIRUVOLU, Shivkumar; (US).
DU, Hui, K.; (US).
ALTMAN, Igor; (US).
MOSSO, Ronald, J.; (US).
KAMBE, Nobuyuki; (US)
Mandataire : DARBI, Peter, S.; Dardi & Associates, PLLC, US Bank Plaza, Suite 2000, 220 South 6th Street, Minneapolis, MN 55402 (US)
Données relatives à la priorité :
60/875,984 19.12.2006 US
Titre (EN) HOLLOW SILICA NANOPARTICLES AS WELL AS SYNTHESIS PROCESSES AND APPLICATIONS THEREOF
(FR) NANOPARTICULES DE SILICE CREUSES AINSI QUE LEURS PROCÉDÉS DE SYNTHÈSE ET LEURS APPLICATIONS
Abrégé : front page image
(EN)Hollow silica nanoparticles can have well defined non-porous shells with low shell fragmentation and good dispersability. These well defined hollow particles can be formed through the controlled oxidation of silicon nanoparticles in an organic solvent. The hollow nanoparticles can have a submicron secondary particle sizes. The hollow silica nanoparticles can be incorporated into polymer composites, such as low index-of- refraction composites, for appropriate applications.
(FR)L'invention porte sur des nanoparticules de silice creuses qui peuvent avoir des enveloppes non poreuses bien définies avec une faible fragmentation d'enveloppe et une bonne aptitude à la dispersion. Ces particules creuses bien définies peuvent être formées par l'oxydation contrôlée des nanoparticules de silicium dans un solvant organique. Les nanoparticules creuses peuvent avoir des dimensions submicroniques de particules secondaires. Les nanoparticules de silice creuses peuvent être incorporées dans des composites polymères, tels que des composites à faible indice de réfraction, pour des applications appropriées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)