WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008078953) COMPOSITION DE PHOTORÉSIST HAUTE SENSIBILITÉ SPÉCIFIQUE À UNE MATRICE NOIRE POUR AFFICHEUR LCD ET MATRICE NOIRE RÉSULTANTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/078953    N° de la demande internationale :    PCT/KR2007/006818
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 26.12.2007
CIB :
G03F 7/028 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 20, Yoido-dong, Youngdungpo-gu, Seoul, 150-721 (KR) (Tous Sauf US).
CHOI, Dong-Chang [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JI, Ho-Chan [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHA, Geun-Young [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Dae-Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHOI, Kyung-Soo [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Han-Soo [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Sung-Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : CHOI, Dong-Chang; (KR).
JI, Ho-Chan; (KR).
CHA, Geun-Young; (KR).
KIM, Dae-Hyun; (KR).
CHOI, Kyung-Soo; (KR).
KIM, Han-Soo; (KR).
KIM, Sung-Hyun; (KR)
Mandataire : HANYANG PATENT FIRM; 9F Keungil Tower, 677-25 Yeoksam-dong, Gangnam-gu, Seoul, 135-914 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2006-0133555 26.12.2006 KR
Titre (EN) BLACK MATRIX HIGH SENSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND BLACK MATRIX PREPARED BY USING THE SAME
(FR) COMPOSITION DE PHOTORÉSIST HAUTE SENSIBILITÉ SPÉCIFIQUE À UNE MATRICE NOIRE POUR AFFICHEUR LCD ET MATRICE NOIRE RÉSULTANTE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a black matrix photoresist composition for a liquid crystal display and a black matrix manufactured by using the same. In particular, in a photoresist composition that includes a coloring agent containing a black pigment, an alkali- soluble resin binder, a multifunctional monomer having an ethylenically unsaturated double bond, a pho- topolymerization initiator, and a solvent, a high-resolution pattern can be obtained by controlling a characteristic of a binder used, that is, a ratio of a reactive group and an acid value, and a margin with respect to a process characteristic is improved, and an excellent pattern characteristic is obtained without causing a pattern to be omitted or a residue to be generated.
(FR)Composition de photorésist haute sensibilité spécifique à une matrice noire pour afficheur LCD et matrice noire résultante. En particulier, composition de photorésist comprenant un colorant qui contient un pigment noir, un liant de résine soluble dans les alcalis, un monomère multifonctionnel à double liaison éthylène insaturée, un initiateur de photopolymérisation, un solvant, un motif haute résolution susceptible d'être établi par contrôle de caractéristique de liant utilisé, à savoir un rapport groupe réactif/valeur acide, qui permet d'améliorer une marge par rapport à une caractéristique de traitement et d'établir une excellente caractéristique de motif sans entraîner d'omission de motif ou de production de résidu.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)