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1. (WO2008078622) MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE À FONCTIONNEMENT POSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE UTILISANT LE MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE À FONCTIONNEMENT POSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/078622    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/074413
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 19.12.2007
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/095 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 1, Sakura-machi Hino-shi Tokyo 1918511 (JP) (Tous Sauf US).
NONAKA, Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NONAKA, Yoshiyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-351553 27.12.2006 JP
Titre (EN) POSITIVE-WORKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE USING THE POSITIVE-WORKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL
(FR) MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE À FONCTIONNEMENT POSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE UTILISANT LE MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE À FONCTIONNEMENT POSITIF
(JA) ポジ型平版印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の作製方法
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a positive-working lithographic printing plate material, which has scratch resistance high enough to cope with a requirement for high productivity of large-size plates, is excellent in sensitivity and development latitude for a developing solution which has a low pH value or has low activity due to deterioration, and a method for manufacturing a lithographic printing plate using the positive-working lithographic pirnting plate material. The lithographic printing plate material comprises a photosensitive layer provided on a support and is characterized in that the photosensitive layer contains a compound containing a residue of a cyclic ureido compound having a cyclic structure having two or more amide bonds (-NHCO-) in an identical ring.
(FR)Cette invention concerne un matériau de plaque d'impression lithographique à fonctionnement positif, qui possède une résistance aux rayures suffisamment élevée pour satisfaire une exigence de productivité élevée de plaques de grande taille, qui est excellent en termes de sensibilité et de latitude de développement pour une solution de développement qui possède une faible valeur de pH ou qui possède une faible activité en raison de la détérioration, et un procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique utilisant le matériau de plaque d'impression lithographique à fonctionnement positif. Le matériau de plaque d'impression lithographique comprend une couche photosensible prévue sur un support et est caractérisé en ce que la couche photosensible contient un composé contenant un résidu d'un composé uréido cyclique ayant une structure cyclique ayant deux liaisons amide ou plus (-NHCO-) dans un anneau identique.
(JA) 本発明は、支持体上に感光性層を有する平版印刷版材料であって、該感光性層が、同一環内に2個以上のアミド結合(-NHCO-)を有する環状構造を有する環状ウレイド化合物の残基を有する化合物を含有することを特徴とし、大版での高生産性に対応した耐傷性を有し、pHが低い又は疲労した活性の低い現像液に対しての感度、現像ラチテュードに優れたポジ型平版印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の作製方法を提供することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)