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1. (WO2008078572) COMPOSITION DE RÉSINE DE POLYACÉTAL ET ARTICLE MOULÉ OBTENU À PARTIR DE CETTE COMPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/078572    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/074071
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 07.12.2007
CIB :
C08L 59/04 (2006.01), C08K 3/20 (2006.01), C08K 5/098 (2006.01), C08K 5/101 (2006.01), C08K 5/13 (2006.01), C08K 5/20 (2006.01), C08K 5/24 (2006.01), C08K 5/29 (2006.01), C08K 5/36 (2006.01), C08K 5/541 (2006.01), C08L 71/00 (2006.01)
Déposants : POLYPLASTICS CO., LTD. [JP/JP]; 18-1, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1088280 (JP) (Tous Sauf US).
KAWAGUCHI, Kuniaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HASE, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KURITA, Hayato [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IKETANI, Hiraku [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAWAGUCHI, Kuniaki; (JP).
HASE, Hiroyuki; (JP).
KURITA, Hayato; (JP).
IKETANI, Hiraku; (JP)
Mandataire : FURUYA, Satoshi; Hamacho-Hanacho Building 6th Floor 2-17-8, Nihonbashi-Hamacho, Chuo-ku, Tokyo 1030007 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-347456 25.12.2006 JP
Titre (EN) POLYACETAL RESIN COMPOSITION AND MOLDED ARTICLE THEREOF
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE DE POLYACÉTAL ET ARTICLE MOULÉ OBTENU À PARTIR DE CETTE COMPOSITION
(JA) ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a polyacetal resin composition which has excellent workability and stability and, when molded into an article, which is remarkably reduced in the amount of aldehyde generated from the article and shows no leaching out of any compounded component from the article. Specifically disclosed is a polyacetal resin composition comprising (A) 100 parts by weight of a polyacetal copolymer having 1.0 mmol/kg or less of a hemiformal terminal group, 0.5 mmol/kg or less of a formyl terminal group and 0.5% by weight of an unstable terminal group, (B) 0.01 to 3 parts by weight of a hindered phenol-type antioxidant, (C) 0.01 to 1 part by weight of a hydrazide compound, and (D) 0.01 to 1 part by weight of a compound selected from the group consisting of an isocyanate compound, an isothiocyanate compound and a modified form thereof.
(FR)L'invention concerne une composition de résine de polyacétal qui présente une excellente maniabilité et une excellente stabilité et qui, une fois moulée pour former un article, génère une quantité remarquablement réduite d'aldéhyde à partir de l'article et ne présente aucune lixiviation des composants mélangés de l'article. L'invention concerne spécifiquement une composition de résine de polyacétal comprenant (A) 100 parties par poids d'un copolymère de polyacétal comportant une quantité inférieure ou égale à 1,0 mmol/kg d'un groupement terminal hémiformal, une quantité inférieure ou égale à 0,5 mmol/kg d'un groupement terminal formyle et 0,5 % en poids d'un groupement terminal instable, (B) 0,01 à 3 parties par poids d'un antioxydant de type phénol à encombrement stérique, (C) 0,01 à 1 partie par poids d'un composé d'hydrazide et (D) 0,01 à 1 partie par poids d'un composé choisi dans le groupe constitué d'un composé isocyanate, d'un composé isothiocyanate et d'une forme modifié de ces composés.
(JA)本発明は、優れた加工性及び安定性を有し、その成形品からのホルムアルデヒド発生量が著しく抑制され、かつ、配合成分の染み出しも防止されたポリアセタール樹脂組成物を提供する。詳しくは、(A)ヘミホルマール末端基量が1.0mmol/kg以下であり、ホルミル末端基量が0.5mmol/kg以下であり、不安定末端基量が0.5重量%以下であるポリアセタール共重合体100重量部に対し、(B)ヒンダードフェノール系酸化防止剤0.01~3重量部、(C)ヒドラジド化合物0.01~1重量部、(D)イソシアネート化合物、イソチオシアネート化合物及びそれらの変性体からなる群から選ばれた化合物0.01~1重量部を配合する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)