WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008078510) MATÉRIAU DE BASE DIFFUSANT LA LUMIÈRE ET SOURCE DE LUMIÈRE PLANAIRE UTILISANT CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/078510    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/073317
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 03.12.2007
CIB :
G02B 5/02 (2006.01)
Déposants : TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP) (Tous Sauf US).
OGATA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIKUCHI, Akikazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHASHI, Kozo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OGATA, Daisuke; (JP).
KIKUCHI, Akikazu; (JP).
TAKAHASHI, Kozo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-345970 22.12.2006 JP
Titre (EN) LIGHT DIFFUSING BASE MATERIAL AND PLANAR LIGHT SOURCE USING THE SAME
(FR) MATÉRIAU DE BASE DIFFUSANT LA LUMIÈRE ET SOURCE DE LUMIÈRE PLANAIRE UTILISANT CELUI-CI
(JA) 光拡散基材およびそれを用いた面光源
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a light diffusing base material, which efficiently eliminates luminance nonuniformity and has both high illuminance uniformity ratio and high luminance characteristics on a screen, and a planar light source which uses such base material and can be a direct backlight having high luminance and high illuminance uniformity ratio. The base material has an uneven shape wherein a top portion and a bottom portion are repeated, on at least one surface. The base material is composed of a material having a refraction index within a range of 1.45-1.65. When the direction wherein the top portion and the bottom portion are repeated is expressed as x, and the direction of the thickness of the base material as z, an angle ϑ of the uneven shape on an x-z plane is 55-85° or 95-125° at the bottom, and the inclination of a tangent line between the adjacent bottom portions is reduced in a direction where x increases.
(FR)L'invention concerne un matériau de base diffusant la lumière, qui élimine efficacement la non-uniformité de luminance et qui possède un rapport d'uniformité d'éclairage élevé et des caractéristiques de luminance élevée sur un écran, et une source de lumière planaire qui utilise ce matériau de base et qui peut être un rétroéclairage direct ayant une luminance élevée et un rapport d'uniformité d'éclairage élevé. Le matériau de base possède une forme irrégulière ayant une partie supérieure et une partie inférieure se répétant, sur au moins une surface. Le matériau de base est composé d'un matériau ayant un indice de réfraction de l'ordre de 1,45 à 1,65. Lorsque la direction de répétition de la partie supérieure et de la partie inférieure est exprimée comme x, et lorsque la direction de l'épaisseur du matériau de base est exprimée comme z, un angle ϑ de la forme irrégulière sur un plan x-z est de 55 à 85° ou de 95 à 125° en bas, et l'inclinaison d'une ligne tangentielle entre les parties inférieures adjacentes est réduite dans une direction d'augmentation de x.
(JA) 輝度ムラを効率良く解消し、画面上の均斉度と高輝度特性を両立することができる光拡散基材と、それを用いた高輝度かつ高均斉度の直下型バックライトとなり得る面光源を提供するために、頂部および底部の繰り返しからなる凹凸形状を少なくとも片面に有する基材であって、該基材は、屈折率が1.45~1.65の範囲内にある材質からなり、頂部および底部の繰り返し方向をx、基材の厚み方向をzとした場合、x-z平面における凹凸形状の裾の角度θが55°~85°の範囲内もしくは95~125°の範囲内であり、かつ隣接する底部間における接線の傾きがx増加方向に減少する光拡散基材とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)