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1. (WO2008078509) MASQUE, ÉTAGE DE MASQUE, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCESSUS DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/078509    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/073297
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 03.12.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
FUKUI, Tatsuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUKUI, Tatsuo; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-351830 27.12.2006 JP
Titre (EN) MASK, MASK STAGE, EXPOSURE APPARATUS, METHOD OF EXPOSURE AND PROCESS FOR MANUFACTURING DEVICE
(FR) MASQUE, ÉTAGE DE MASQUE, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCESSUS DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) マスク、マスクステージ、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A multiscanning exposure apparatus that while suppressing influences of the own-weight flexure of mask on imaging on a photosensitive substrate, realizes appropriate projection exposure using multiple projection optics units with magnifying power. The exposure apparatus is one adapted to carry out projection exposure of a mask pattern on a photosensitive substrate while making relative movement, along a scan direction, of mask (M) and photosensitive substrate (P) to multiple projection optics units (PL1 to PL11), wherein the projection optics units exhibit more than one magnification. There is provided a mask stage having a pair of support members extending in the direction of scan and supporting two edge portions of the mask and one or multiple intermediate support members extending in the direction of scan between the pair of support members and supporting the mask.
(FR)Appareil d'exposition à balayages multiples qui, tout en supprimant les influences de la flexion du masque par son propre poids sur l'imagerie sur un substrat photosensible, réalise une exposition par projection appropriée en utilisant plusieurs unités d'optiques de projection ayant un grossissement optique. L'appareil d'exposition est adapté afin d'effectuer une exposition par projection d'un motif de masque sur un substrat photosensible tout en effectuant un mouvement relatif, le long d'une direction de balayage, du masque (M) et du substrat photosensible (P) vers plusieurs unités d'optiques de projection (PL1 to PL11), les unités d'optiques de projection présentant plusieurs grossissements optiques. Est prévu un étage de masque ayant une paire d'éléments de support s'étendant dans la direction de balayage et supportant deux parties de bord du masque et un ou plusieurs élément(s) de support intermédiaire(s) s'étendant dans la direction de balayage entre la paire d'éléments de support et supportant le masque.
(JA)マスクの自重撓みが感光性基板上での結像に及ぼす影響を抑えつつ、拡大倍率を有する複数の投影光学ユニットを用いて良好な投影露光を行うことのできるマルチ走査型の露光装置。複数の投影光学ユニット(PL1~PL11)に対してマスク(M)および感光性基板(P)を走査方向に沿って相対移動させつつマスクのパターンを感光性基板へ投影露光する本発明の露光装置において、投影光学ユニットは等倍よりも大きい倍率を有する。マスクステージは、走査方向に延びてマスクの両端部を支持する一対の支持部材と、この一対の支持部材の間において走査方向に延びてマスクを支持する1つまたは複数の中間支持部材とを有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)