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1. (WO2008078503) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/078503    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/073074
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 29.11.2007
CIB :
H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/42 (2006.01), C23C 16/46 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
ROHM CO., LTD. [JP/JP]; 21, Saiin Mizosaki-Cho, Ukyo-Ku, Kyoto-Shi, Kyoto 6158585 (JP) (Tous Sauf US).
MORISAKI, Eisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Hirokatsu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOSHIKAWA, Jun [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAWADA, Ikuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIMOTO, Tsunenobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAMOTO, Noriaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AKETA, Masatoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MORISAKI, Eisuke; (JP).
KOBAYASHI, Hirokatsu; (JP).
YOSHIKAWA, Jun; (JP).
SAWADA, Ikuo; (JP).
KIMOTO, Tsunenobu; (JP).
KAWAMOTO, Noriaki; (JP).
AKETA, Masatoshi; (JP)
Mandataire : ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-Chome, Shibuya-Ku, Tokyo 1506032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-348502 25.12.2006 JP
Titre (EN) FILM FORMING APPARATUS AND METHOD OF FORMING FILM
(FR) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置および成膜方法
Abrégé : front page image
(EN)A film forming apparatus comprising a treating vessel in which a vacuum space is maintained; a substrate holding member for holding a substrate within the treating vessel, fabricated from a material composed mainly of carbon; a coil for induction heating of the substrate holding member, disposed outside the treating vessel; and a heat insulation material disposed so as to cover the substrate holding member and to be apart from the treating vessel. The vacuum space is divided into a film forming gas supply space in which a film forming gas is fed and a heat insulation space defined between the substrate holding member and the treating vessel. A refrigerant is fed into the heat insulation space.
(FR)Cette invention concerne un appareil de formation de film comprenant une cuve de traitement dans laquelle est ménagé un espace sous vide; un élément support de substrat conçu pour maintenir un substrat à l'intérieur de la cuve de traitement, lequel élément est fabriqué à partir d'un matériau principalement composé de carbone; une bobine permettant le chauffage par induction de l'élément support de substrat et placée à l'extérieur de la cuve de traitement; et un matériau d'isolation thermique installé de manière à recouvrir l'élément support de substrat et à être espacé de la cuve de traitement. L'espace vide est divisé en un espace d'alimentation en gaz de formation de film dans lequel un gaz de formation de film est introduit et un espace d'isolation thermique défini entre l'élément support de substrat et la cuve de traitement. Un fluide frigorigène est introduit dans l'espace d'isolation thermique.
(JA) 開示される成膜装置は、内部に減圧空間が維持される処理容器と、カーボンを主成分とする材料により構成され、処理容器内に基板を保持する基板保持部と、処理容器の外側に配置され、基板保持部を誘導加熱するコイルと、基板保持部を覆い、処理容器から離間されるよう配置される断熱材と、を備える。上記の減圧空間は、成膜ガスが供給される成膜ガス供給空間と、基板保持部と処理容器との間に画成される断熱空間とに分離され、断熱空間に冷却媒体が供給される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)