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1. (WO2008078482) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN INTERMÉDIAIRE DE SYNTHÈSE DE L'ASÉNAPINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/078482    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/072601
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 15.11.2007
CIB :
C07C 51/367 (2006.01), C07C 231/02 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (Tous Sauf US).
TOKUDA, Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WANG, Weiqi [CN/JP]; (JP) (US Seulement).
IKEMOTO, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOKUDA, Osamu; (JP).
WANG, Weiqi; (JP).
IKEMOTO, Tetsuya; (JP)
Mandataire : ENOMOTO, Masayuki; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited 5-33, Kitahama 4-chome Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5418550 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-346735 22.12.2006 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING INTERMEDIATE OF ASENAPINE SYNTHESIS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN INTERMÉDIAIRE DE SYNTHÈSE DE L'ASÉNAPINE
(JA) アセナピン合成中間体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing 2-(2-(4-chlorophenoxy)phenyl)acetic acid [II] through reaction of 2-chlorophenylacetic acid [I] with 4-chlorophenol.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de l'acide 2-(2-(4-chlorophénoxy)phényl)acétique [II] par la réaction de l'acide 2-chlorophénylacétique [I] avec du 4-chlorophénol.
(JA)2−クロロフェニル酢酸[I]と4−クロロフェノールとを反応させる2−(2−(4−クロロフェノキシ)フェニル)酢酸[II]の製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)