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1. (WO2008078012) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MISE EN OEUVRE D'UN SYSTEME DE POSAGE COMPOSE D'UNE ENCEINTE ETANCHE CONTENANT DES PARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/078012    N° de la demande internationale :    PCT/FR2007/001906
Date de publication : 03.07.2008 Date de dépôt international : 19.11.2007
CIB :
F16M 13/00 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), H05K 13/00 (2006.01)
Déposants : NOVATEC SA [FR/FR]; 350, avenue d'Italie, ZA Albasud, F-82000 Montauban (FR) (Tous Sauf US).
BOURRIERES, Francis [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
KAISER, Clément [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : BOURRIERES, Francis; (FR).
KAISER, Clément; (FR)
Représentant
commun :
NOVATEC SA; 350, avenue d'Italie, ZA Albasud, F-82000 Montauban (FR)
Données relatives à la priorité :
0610209 21.11.2006 FR
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR USING A SETTING SYSTEM COMPRISING A SEALED CHAMBER CONTAINING PARTICLES
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MISE EN OEUVRE D'UN SYSTEME DE POSAGE COMPOSE D'UNE ENCEINTE ETANCHE CONTENANT DES PARTICULES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a method and device for using a moulding or setting system of the type that involves the use of a deformable sealed chamber (2) which includes a membrane (3), is connected to a vacuum source (5) and contains particles (4) which agglomerate under vacuum conditions in the chamber (2). The inventive method comprises the following steps in which: the part (1) from which an impression is to be taken is placed on the deformable sealed chamber (2) containing the particles (4), the part (1) is covered with a sealed wall (10) so that it is trapped between the wall (10) and the membrane (3) of the deformable chamber (2), a first vacuum is applied in the area between the wall (10) and the deformable chamber (2) so that the membrane (3) of the deformable chamber is applied against the contours of the part (1) and the part thus covered is pressed into the particles (4), a second vacuum is applied in the deformable chamber (2) so that pressure is applied against the particles (4) in contact with the part (1) and the impression of the part in the deformable chamber (2) sets, the first vacuum between the sealed wall (10) and the deformable chamber (2) is released, and the sealed wall is removed.
(FR)La présente invention concerne un procédé et son dispositif de mise en oeuvre d'un système de posage ou de moulage du type de ceux faisant appel à une enceinte étanche et déformable (2) comprenant une membrane (3) et reliée à une source de dépression (5) et contenant des particules (4) qui s'agglomèrent lorsque l'on applique une dépression dans ladite enceinte (2), qui consiste à : Disposer la pièce (1) dont on veut prendre l'empreinte sur ladite enceinte étanche et déformable (2) comprenant les particules (4), recouvrir ladite pièce (1) d'une paroi étanche (10) de manière à emprisonner la pièce entre ladite paroi (10) et la membrane (3) de l'enceinte déformable (2), appliquer une première dépression dans la zone située entre la paroi (10) et l'enceinte déformable (2) de manière à appliquer la membrane (3) de l'enceinte déformable sur les contours de la pièce (1) et d'enfoncer la pièce ainsi recouverte dans les particules (4), appliquer une seconde dépression dans l'enceinte déformable (2) de manière à pousser les particules (4) en contact avec la pièce (1) et à figer l'empreinte de la pièce dans l'enceinte déformable (2), supprimer ladite première dépression entre la paroi étanche (10) et l'enceinte déformable (2) et retirer la paroi étanche.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)