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1. (WO2008064044) PROCÉDÉS POUR EFFECTUER LA VÉRIFICATION DU DÉBIT RÉEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/064044 N° de la demande internationale : PCT/US2007/084724
Date de publication : 29.05.2008 Date de dépôt international : 14.11.2007
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302
pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
306
Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
3065
Gravure par plasma; Gravure au moyen d'ions réactifs
Déposants :
LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, California 94538, US (AllExceptUS)
SHAREEF, Iqbal A. [US/US]; US (UsOnly)
TIETZ, Jim [US/US]; US (UsOnly)
WONG, Vernon [US/US]; US (UsOnly)
MEINECKE, Rich [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
SHAREEF, Iqbal A.; US
TIETZ, Jim; US
WONG, Vernon; US
MEINECKE, Rich; US
Mandataire :
NGUYEN, Joseph A.; P.O. Box 700640 San Jose, California 95170, US
Données relatives à la priorité :
11/938,17109.11.2007US
60/866,40617.11.2006US
Titre (EN) METHODS FOR PERFORMING ACTUAL FLOW VERIFICATION
(FR) PROCÉDÉS POUR EFFECTUER LA VÉRIFICATION DU DÉBIT RÉEL
Abrégé :
(EN) A method for determining an actual gas flow rate in a reaction chamber of a plasma processing system is provided. The method includes delivering gas by a gas flow delivery system controlled by a mass flow controller (MFC) to an orifice, which is located upstream from the reaction chamber. The method also includes pressurizing the gas to create a choked flow condition within the orifice. The method further includes measuring a set of upstream pressure values of the gas via a set of pressure sensors. The method yet also includes applying a calibration factor of a set of calibration factors to determine the actual flow rate. The calibration factor is a ratio of an average of the set of upstream pressure values to an average of a set of golden upstream pressure values, which is associated with an indicated flow rate for an MFC.
(FR) L'invention concerne un procédé pour déterminer un débit de gaz réel dans une chambre de réaction d'un système de traitement au plasma. Le procédé comprend la distribution du gaz par un système de distribution de débit de gaz régulé par un régulateur de débit massique (MFC) vers un orifice, qui est situé en amont de la chambre de réaction. Le procédé comprend également la mise sous pression du gaz pour créer une condition d'écoulement étranglé à l'intérieur de l'orifice. Le procédé comprend en outre la mesure d'un ensemble de valeurs de pression en amont du gaz par l'intermédiaire d'un ensemble de capteurs de pression. Le procédé comprend enfin également l'application d'un facteur de calibrage d'un ensemble de facteurs de calibrage pour déterminer le débit réel. Le facteur de calibrage est le rapport d'une moyenne de l'ensemble de valeurs de pression en amont sur une moyenne d'un ensemble de valeurs de pression en amont favorables, qui est associé à un débit indiqué pour un MFC.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020090080529SG152587JP2010510491CN101536159