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1. (WO2008062870) ÉLÉMENT DE GUIDAGE OPTIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI, GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET PLAQUE DE GUIDAGE DE LUMIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/062870 N° de la demande internationale : PCT/JP2007/072665
Date de publication : 29.05.2008 Date de dépôt international : 22.11.2007
CIB :
G02B 6/12 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,G02B 6/122 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6
Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10
du type guide d'ondes optiques
12
du genre à circuit intégré
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
02
en ce qui concerne les propriétés physiques, p.ex. la dureté
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6
Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10
du type guide d'ondes optiques
12
du genre à circuit intégré
122
Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
Déposants :
アルプス電気株式会社 ALPS ELECTRIC CO., LTD [JP/JP]; 〒1458501 東京都大田区雪谷大塚町1番7号 Tokyo 1-7, Yukigaya-otsuka-cho, Ota-ku, Tokyo 1458501, JP (AllExceptUS)
三菱化学株式会社 MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 〒1080014 東京都港区芝四丁目14番1号 Tokyo 14-1, Shiba 4-chome, Minato-ku, Tokyo 1080014, JP (AllExceptUS)
伊藤 直樹 ITO, Naoki [JP/JP]; JP (UsOnly)
岡本 淳 OKAMOTO, Jun [JP/JP]; JP (UsOnly)
相原 正巳 AIHARA, Masami [JP/JP]; JP (UsOnly)
鎌田 良枝 KAMATA, Yoshie [JP/JP]; JP (UsOnly)
森 寛 MORI, Yutaka [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
伊藤 直樹 ITO, Naoki; JP
岡本 淳 OKAMOTO, Jun; JP
相原 正巳 AIHARA, Masami; JP
鎌田 良枝 KAMATA, Yoshie; JP
森 寛 MORI, Yutaka; JP
Mandataire :
真田 有 SANADA, Tamotsu; 〒1800004 東京都武蔵野市吉祥寺本町1丁目10番31号吉祥寺マークビル5階 Tokyo Kichijoji-Mark Bldg. 5th Floor 10-31, Kichijoji-honcho 1-chome Musashino-shi, Tokyo 1800004, JP
Données relatives à la priorité :
2006-31576522.11.2006JP
2007-09368630.03.2007JP
2007-09368730.03.2007JP
2007-09368830.03.2007JP
Titre (EN) OPTICAL GUIDING MEMBER, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, OPTICAL WAVEGUIDE AND LIGHT GUIDE PLATE
(FR) ÉLÉMENT DE GUIDAGE OPTIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI, GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET PLAQUE DE GUIDAGE DE LUMIÈRE
(JA) 導光部材及びその製造方法、並びに光導波路および導光板
Abrégé :
(EN) An optical guiding member that excels in heat resistance, light stability, film forming property, adhesion to substratum and adhesion at lamination plane, and that even when used for a prolonged period of time, is free from cracking, peeling or coloring. The optical guiding member is one comprised of a laminate of two or more layers different from each other in refractive index, wherein at least two layers in contact with each other among the layers satisfy the following requirements that: (1) in the solid Si-nuclear magnetic resonance spectrum, the position and half-width value of peak top be as specified; (2) the silicon content be 10 wt.% or more; (3) the silanol content be in the range of 0.01 to 10 wt.%; and (4) the value of hardness (Shore A) measured by type-A durometer be in the range of 5 to 90.
(FR) La présente invention concerne un élément de guidage optique qui excelle en termes de résistance à la chaleur, stabilité à la lumière, propriété de formation de film, adhérence à un substrat et adhérence à un plan de stratification, et qui, même lorsqu'il est utilisé pendant une période prolongée, ne présente pas de fissuration, décollement ou coloration. L'élément de guidage optique est constitué d'un stratifié de deux ou plusieurs couches différentes les unes des autres en termes d'indice de réfraction, dans lequel au moins deux couches en contact l'une avec l'autre parmi les couches satisfont les conditions requises suivantes qui nécessitent que : (1) dans le spectre de résonance magnétique nucléaire de Si solide, la position et la valeur de demi-largeur d'un sommet d'amplitude maximum soit comme spécifié ; (2) la teneur en silicium soit de 10 % en poids ou plus ; (3) la teneur en silanol soit comprise entre 0,01 et 10 % en poids ; et (4) la valeur de dureté (Shore A) mesurée par un duromètre de type A soit comprise entre 5 et 90.
(JA)  耐熱性、耐光性、成膜性、基板との密着性および積層面での密着性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離、着色を生じることない導光部材を提供するため、屈折率の異なる2以上の層が積層されてなる導光部材において、前記各層のうち互いに接する少なくとも2層が下記の条件を満たすようにする。 (1)固体Si-核磁気共鳴スペクトルにおいて、ピークトップの位置および半値幅が特定のものである。 (2)ケイ素含有率が10重量%以上である。 (3)シラノール含有率が0.01重量%以上、10重量%以下である。 (4)デュロメータタイプAによる硬度測定値(ショアA)が5以上90以下である。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)