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1. (WO2008062642) DISPOSITIF SEMICONDUCTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Informations disponibles sur l'ouverture de la phase nationale(plus d'informations)
OfficeDate d'entréeNuméro nationalStatut national
Japon 13.05.20092008545346
États-Unis d'Amérique 18.05.200912515384Published: 04.03.2010
Granted: 10.01.2012