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1. (WO2008061097) PROTECTION DE CHARGE AVEC EMPILAGE DE PASCHEN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/061097 N° de la demande internationale : PCT/US2007/084568
Date de publication : 22.05.2008 Date de dépôt international : 13.11.2007
CIB :
G02B 26/00 (2006.01) ,H01L 27/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26
Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
Déposants :
GLIMMERGLASS NETWORKS, INC. [US/US]; 26142 Eden Landing Road Hayward, California 94545, US (AllExceptUS)
STAKER, Bryan, P. [US/US]; US (UsOnly)
FERNANDEZ, Andres [US/US]; US (UsOnly)
KINDWALL, Alexander, P. [US/US]; US (UsOnly)
OWENS, Windsor, E. [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
STAKER, Bryan, P.; US
FERNANDEZ, Andres; US
KINDWALL, Alexander, P.; US
OWENS, Windsor, E.; US
Mandataire :
ALLEN, Kenneth, R. ; Townsend And Townsend And Crew Llp Two Embarcadero Center 8th Floor San Francisco, California 94111, US
Données relatives à la priorité :
11/559,82514.11.2006US
Titre (EN) CHARGING GUARD WITH PASCHEN STACKING
(FR) PROTECTION DE CHARGE AVEC EMPILAGE DE PASCHEN
Abrégé :
(EN) A MEMS-based mirror is provided with trenches between adjacent electrodes in order to be able to withstand relatively high applied voltages, and thus has a substantially reduced exposure to uncontrolled surface potentials. The MEMS-based mirror, thus avoids voltage drifts and has an improved mirror position stability. The trench dimensions are selected such that the voltage applied between each adjacent pair of electrodes stays within predefined limits. An insulating layer, such as silicon dioxide, electrically isolates each pair of adjacent electrodes. Each insulting layer extends partially above an associated trench and is characterized by the same height and width dimensions.
(FR) La présente invention concerne un miroir à base MEMS qui est pourvu de tranchées entre des électrodes adjacentes afin de pouvoir supporter des tensions appliquées relativement élevées, et ainsi présente une exposition sensiblement réduite à des potentiels de surface non contrôlés. Le miroir à base de MEMS évite ainsi des dérives de tension et possède une stabilité de position de miroir optimisée. Les dimensions de tranchées sont sélectionnées de sorte que la tension appliquée entre chaque paire adjacente d'électrodes reste au sein de limites prédéfinies. Une couche isolante, telle que du dioxyde de silicium, isole électriquement chaque paire d'électrodes adjacentes. Chaque couche isolante s'étend partiellement au-dessus d'une tranchée associée et est caractérisée par des dimensions identiques de hauteur et de largeur.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)
Also published as:
EP2089753JP2010509086CN101606096CA2668956