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1. (WO2008053696) APPAREIL DE VALORISATION DU SILICIUM ET PROCÉDÉ DE VALORISATION DU SILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/053696 N° de la demande internationale : PCT/JP2007/070092
Date de publication : 08.05.2008 Date de dépôt international : 15.10.2007
CIB :
C01B 33/037 (2006.01) ,B03C 1/00 (2006.01) ,B07B 9/00 (2006.01) ,C02F 11/12 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
02
Silicium
037
Purification
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
03
SÉPARATION DES SOLIDES PAR UTILISATION DE LIQUIDES OU PAR UTILISATION DE TABLES OU CRIBLES À PISTON PNEUMATIQUES; SÉPARATION MAGNÉTIQUE OU ÉLECTROSTATIQUE DE MATÉRIAUX SOLIDES À PARTIR DE MATÉRIAUX SOLIDES OU DE FLUIDES; SÉPARATION PAR DES CHAMPS ÉLECTRIQUES À HAUTE TENSION
C
SÉPARATION MAGNÉTIQUE OU ÉLECTROSTATIQUE DE MATÉRIAUX SOLIDES À PARTIR DE MATÉRIAUX SOLIDES OU DE FLUIDES; SÉPARATION PAR DES CHAMPS ÉLECTRIQUES À HAUTE TENSION
1
Séparation magnétique
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
07
SÉPARATION DES SOLIDES; TRIAGE
B
SÉPARATION DE DIFFÉRENTS SOLIDES LES UNS DES AUTRES PAR CRIBLAGE, TAMISAGE OU UTILISATION DE COURANTS DE GAZ; AUTRE SÉPARATION PAR VOIE SÈCHE POUR MATÉRIAU EN VRAC, p.ex. POUR DES OBJETS INDIVIDUELS MANIPULABLES COMME UN MATÉRIAU EN VRAC
9
Combinaisons d'appareils à cribler ou tamiser ou à séparer des solides par utilisation de courants de gaz; Disposition générale des installations, p.ex. schéma opératoire
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
11
Traitement des boues d'égout; Dispositifs à cet effet
12
par déshydratation, séchage ou épaississement
Déposants :
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 〒5458522 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 Osaka 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522, JP (AllExceptUS)
梶本 公彦 KAJIMOTO, Kimihiko; null (UsOnly)
北條 義之 HOJO, Yoshiyuki; null (UsOnly)
Inventeurs :
梶本 公彦 KAJIMOTO, Kimihiko; null
北條 義之 HOJO, Yoshiyuki; null
Mandataire :
野河 信太郎 NOGAWA, Shintaro; 〒5300047 大阪府大阪市北区西天満5丁目1-3 南森町パークビル 野河特許事務所 Osaka Nogawa Patent Office Minamimorimachi Park Bldg. 1-3, Nishitenma 5-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 530-0047, JP
Données relatives à la priorité :
2006-29951302.11.2006JP
Titre (EN) SILICON RECLAMATION APPARATUS AND METHOD OF RECLAIMING SILICON
(FR) APPAREIL DE VALORISATION DU SILICIUM ET PROCÉDÉ DE VALORISATION DU SILICIUM
(JA) シリコン再生装置、シリコン再生方法
Abrégé :
(EN) A silicon reclamation apparatus with which a large amount of silicon can be easily reclaimed from a waste slurry. The silicon reclamation apparatus comprises: a solid-liquid separation part in which either a waste slurry discharged from a cutting device or polishing device in which a slurry comprising abrasive grains and a coolant is used for silicon cutting or polishing or a waste slurry concentrate obtained by concentrating the waste slurry is subjected to solid-liquid separation to obtain solid substances for silicon recovery; a washing part in which the solid substances for silicon recovery are washed with an organic solvent; and a classification part in which the solid substances for silicon recovery after the washing are classified to obtain a silicon-containing powder having a higher silicon content than before the classification.
(FR) Un appareil de valorisation du silicium permet de régénérer facilement une grande quantité de silicium à partir d'une bouillie résiduaire. L'appareil de valorisation du silicium comporte une partie de séparation solide-liquide dans laquelle soit une bouillie résiduaire déchargée d'un dispositif de coupe ou d'un dispositif de polissage dans lequel une bouillie comprenant des grains abrasifs et un réfrigérant est utilisée pour couper ou polir du silicium, soit un concentré de bouillie résiduaire obtenu par concentration de la bouillie résiduaire est soumis à une séparation solide-liquide pour obtenir des substances solides à partir desquelles valoriser le silicium ; une partie de lavage dans laquelle les substances solides à partir desquelles valoriser du silicium sont lavées avec un solvant organique ; et une partie de classification dans laquelle les substances solides à partir desquelles valoriser du silicium sont classées après le lavage pour obtenir une poudre contenant une teneur en silicium supérieure à la teneur avant lavage.
(JA) 廃スラリーから簡易に多くのシリコンを回収することができるシリコン再生装置を提供する。 本発明のシリコン再生装置は、砥粒とクーラントを含むスラリーを使用してシリコンを切断する切断装置又は研磨する研磨装置から排出された廃スラリー、又は前記廃スラリーが濃縮された廃スラリー濃縮分を固液分離してシリコン回収用固形分を取得する固液分離部と、有機溶媒を用いて前記シリコン回収用固形分を洗浄する洗浄部と、洗浄後の前記シリコン回収用固形分に対して分級を行って、分級前よりもシリコンの含有率が高められたシリコン含有粉体を取得する分級部とを備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
US20100068115CN101528597