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1. (WO2008053620) PROCÉDÉ POUR RECUEILLIR UN MÉTAL DE VALEUR À PARTIR DE FRAGMENTS D'ITO
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/053620 N° de la demande internationale : PCT/JP2007/062899
Date de publication : 08.05.2008 Date de dépôt international : 27.06.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 21.12.2007
CIB :
C25C 1/24 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
C
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION, LA RÉCUPÉRATION OU L'AFFINAGE ÉLECTROLYTIQUE DES MÉTAUX; APPAREILLAGES À CET EFFET
1
Production, récupération ou affinage électrolytique des métaux par électrolyse de solutions
24
Alliages obtenus par réduction cathodique de tous leurs ions
Déposants :
日鉱金属株式会社 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. [JP/JP]; 〒1050001 東京都港区虎ノ門二丁目10番1号 Tokyo 10-1, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001, JP (AllExceptUS)
新藤 裕一朗 SHINDO, Yuichiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
竹本 幸一 TAKEMOTO, Kouichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
新藤 裕一朗 SHINDO, Yuichiro; JP
竹本 幸一 TAKEMOTO, Kouichi; JP
Mandataire :
小越 勇 OGOSHI, Isamu; 〒1050001 東京都港区虎ノ門3丁目1番10号 第2虎ノ門電気ビル5階 小越国際特許事務所 Tokyo OGOSHI International Patent Office Daini-Toranomon Denki Bldg., 5F 3-1-10 Toranomon, Minato-ku Tokyo 1050001, JP
Données relatives à la priorité :
2006-28818924.10.2006JP
Titre (EN) METHOD FOR COLLECTION OF VALUABLE METAL FROM ITO SCRAP
(FR) PROCÉDÉ POUR RECUEILLIR UN MÉTAL DE VALEUR À PARTIR DE FRAGMENTS D'ITO
(JA) ITOスクラップからの有価金属の回収方法
Abrégé :
(EN) Disclosed is a method for collecting a valuable metal from an indium-tin oxide (ITO) scrap, characterized by collecting an indium-tin alloy by the electrolysis of the ITO scrap. Also disclosed is a method for collecting a valuable metal from an ITO scrap, characterized by providing an ITO-electrolyzing bath and an indium-tin alloy-collecting bath, dissolving ITO in the electrolyzing bath, and collecting the indium-tin alloy in the collecting bath. It becomes possible to provide a method for collecting an indium-tin alloy at high efficiency from an ITO sputtering target or an ITO scrap (e.g., a ITO waste) produced during the production of the ITO sputtering target.
(FR) L'invention concerne un procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'oxyde d'indium et d'étain (ITO), caractérisé par la collecte d'un alliage indium-étain par l'électrolyse de fragments d'ITO. L'invention concerne également un procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ITO, caractérisé par la fourniture d'un bain d'électrolyse d'ITO et d'un bain de collecte d'alliage indium-étain, la dissolution de l'ITO dans le bain d'électrolyse, et la collecte de l'alliage indium-étain dans le bain de collecte. Il devient possible de proposer un procédé pour recueillir un alliage indium-étain à un rendement élevé à partir d'une cible de pulvérisation cathodique d'ITO ou de fragments d'ITO (par exemple, un déchet d'ITO) produits pendant la production de la cible de pulvérisation cathodique d'ITO.
(JA) ITOスクラップを電解することにより、インジウム-錫合金として回収することを特徴とするITOスクラップからの有価金属の回収方法。ITOの電解槽とインジウム-錫合金回収槽とを設け、電解槽でITOを溶解した後、インジウム-錫合金回収槽で、インジウム-錫合金を回収することを特徴とするITOスクラップからの有価金属の回収方法。インジウム-錫酸化物(ITO)スパッタリングターゲット又は製造時に発生するITO端材等のITOスクラップから、インジウム-錫合金を効率良く回収する方法を提供する。 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
KR1020090057141EP2063000US20100193372CN101528989CA2666129