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1. (WO2008053569) ÉLÉMENT PIÉZOELECTRIQUE MULTICOUCHES ET APPAREIL D'INJECTION EMPLOYANT CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/053569 N° de la demande internationale : PCT/JP2006/322212
Date de publication : 08.05.2008 Date de dépôt international : 31.10.2006
CIB :
H01L 41/083 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
41
Dispositifs piézo-électriques en général; Dispositifs électrostrictifs en général; Dispositifs magnétostrictifs en général; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Détails
08
Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
083
avec une structure empilée ou multicouche
Déposants :
KYOCERA CORPORATION [JP/JP]; 6, Takeda Tobadono-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6128501, JP (AllExceptUS)
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2, Munich D80333, DE (AllExceptUS)
INAGAKI, Masahiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
SAKAMOTO, Takami [JP/JP]; JP (UsOnly)
KASTL, Harald-Johannes [DE/DE]; DE (UsOnly)
SCHUH, Carsten [DE/DE]; DE (UsOnly)
DOELLGAST, Bernhard [DE/DE]; DE (UsOnly)
OCHI, Atsushi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
INAGAKI, Masahiro; JP
SAKAMOTO, Takami; JP
KASTL, Harald-Johannes; DE
SCHUH, Carsten; DE
DOELLGAST, Bernhard; DE
OCHI, Atsushi; JP
Mandataire :
TANAKA, Mitsuo ; AOYAMA & PARTNERS IMP Building 3-7 Shiromi 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5400001, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) MULTI-LAYER PIEZOELECTRIC ELEMENT AND INJECTION APPARATUS EMPLOYING THE SAME
(FR) ÉLÉMENT PIÉZOELECTRIQUE MULTICOUCHES ET APPAREIL D'INJECTION EMPLOYANT CELUI-CI
Abrégé :
(EN) A multi-layer piezoelectric element which undergo less change in the amount of displacement and shows high durability during continuous operation under a high voltage and pressure over a long period are provided. The multi-layer piezoelectric element comprises a stack having metal layers and piezoelectric layers stacked one on another, and a pair of external electrodes formed on the side faces of the stack, wherein at least one of the metal layers is stress relieving layer having partial metal layers scattered between the two piezoelectric layers and voids, wherein junction sections are formed between the two piezoelectric layers to join and are disposed on both sides of an imaginary straight line drawn to connect the center of width of one of the external electrodes and the center of width of the other of the external electrodes in a plane including the stress relieving perpendicular to the stacking direction.
(FR) L'invention concerne un élément piézoélectrique multicouches dont la quantité de déplacement subit moins de changement et dont la durabilité est élevée pendant un fonctionnement de longue durée, continu, sous haute tension et haute pression. L'élément piézoélectrique multicouches comporte un empilement muni de couches métalliques et de couches piézoélectriques empilées les unes sur les autres et une paire d'électrodes externes formées sur les faces latérales de l'empilement. Au moins l'une des couches métalliques est une couche de recuit de relaxation dotée de couches métalliques partielles dispersées entre les deux couches piézoélectriques et des vides ; des sections de jonction sont formées entre les deux couches piézoélectriques pour une liaison et disposées sur les deux côtés d'une ligne droite imaginaire dessinée pour connecter le centre de la largeur de l'une des électrodes externes et le centre de la largeur de l'autre électrode externe dans un plan comprenant le recuit de relaxation perpendiculaire à la direction d'empilement.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
EP2087535JP2010508648US20100060110CN101536203