Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2008050813) MEMBRANE POREUSE EN CÉRAMIQUE ET FILTRE EN CÉRAMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/050813 N° de la demande internationale : PCT/JP2007/070762
Date de publication : 02.05.2008 Date de dépôt international : 18.10.2007
CIB :
B01D 71/02 (2006.01) ,C04B 41/87 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
71
Membranes semi-perméables destinées aux procédés ou aux appareils de séparation, caractérisées par leurs matériaux; Procédés spécialement adaptés à leur fabrication
02
Matériaux inorganiques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
04
CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
B
CHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
41
Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiques; Traitement de la pierre naturelle
80
de céramiques uniquement
81
Revêtement ou imprégnation
85
avec des substances inorganiques
87
Céramiques
Déposants :
NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530, JP (AllExceptUS)
ISOMURA, Manabu [JP/JP]; JP (UsOnly)
HISHIKI, Tatsuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
WADA, Ichiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
ISOMURA, Manabu; JP
HISHIKI, Tatsuya; JP
WADA, Ichiro; JP
Mandataire :
WATANABE, Kazuhira; 3rd Fl., No.8 Kikuboshi Tower Building, 20-18, Asakusabashi 3-chome, Taito-ku, Tokyo 1110053, JP
Données relatives à la priorité :
2006-28439818.10.2006JP
Titre (EN) CERAMIC POROUS MEMBRANE AND CERAMIC FILTER
(FR) MEMBRANE POREUSE EN CÉRAMIQUE ET FILTRE EN CÉRAMIQUE
Abrégé :
(EN) There are disclosed a ceramic porous membrane formed with less membrane formation times and having less defects, a small and uniform thickness and a high flux, and a ceramic filter. A silica membrane (1) is formed on a titania UF membrane (14) as an ultrafiltration membrane (a UF membrane) formed on a porous base member (11) which is a microfiltration membrane (also referred to as an MF membrane) and having an average pore diameter smaller than that of the porous base member (11), and the silica membrane has an average pore diameter smaller than that of the titania UF membrane (14), and does not substantially permeates the titania UF membrane.
(FR) L'invention concerne une membrane poreuse en céramique formée avec des temps de formation de membrane réduits et présentant moins de défauts, une épaisseur faible et uniforme et un flux élevé, ainsi qu'un filtre en céramique. Une membrane en silice (1) est formée sur une membrane UF au dioxyde de titane (14) qui est une membrane d'ultrafiltration (également appelée membrane UF) formée sur un élément de base poreux (11) qui est une membrane de microfiltration (membrane MF) et présente un diamètre de pore moyen inférieur à celui de l'élément de base poreux (11), la membrane en silice présentant un diamètre de pore moyen inférieur à celui de la membrane UF au dioxyde de titane (14) et ne s'infiltrant sensiblement pas dans la membrane UF au dioxyde de titane.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
EP2083941JP2010506698US20080093291US20100193438CN101528328US20130270178
CA2666276BRPI0717523AU2007310056