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1. (WO2008049844) PROCÉDÉ D'IMAGERIE HAUTE RÉSOLUTION À L'AIDE D'UNE COUCHE DE MODIFICATION D'IMAGE IN SITU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/049844 N° de la demande internationale : PCT/EP2007/061360
Date de publication : 02.05.2008 Date de dépôt international : 23.10.2007
CIB :
G03F 7/095 (2006.01) ,G03F 1/10 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
09
caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
095
ayant plus d'une couche photosensible
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
10
par exposition et dépouillement de couches organiques colorées ou contenant des pigments; par coloration de patrons macromoléculaires
Déposants :
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road Armonk, New York 10504, US (AllExceptUS)
IBM UNITED KINGDOM LIMITED [GB/GB]; PO Box 41 North Harbour Portsmouth Hampshire PO6 3AU, GB (MG)
AZPIROZ, Jaione, Tirapu [ES/US]; US (UsOnly)
HUANG, Wu-Song [US/US]; US (UsOnly)
LAWSON, Margaret [US/US]; US (UsOnly)
PATEL, Kaushal [IN/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
AZPIROZ, Jaione, Tirapu; US
HUANG, Wu-Song; US
LAWSON, Margaret; US
PATEL, Kaushal; US
Mandataire :
WILLIAMS, Julian, David; IBM United Kingdom Limited Intellectual Property Law Hursley Park Winchester Hampshire SO21 2JN, GB
Données relatives à la priorité :
11/551,82423.10.2006US
Titre (EN) HIGH RESOLUTION IMAGING PROCESS USING AN IN-SITU IMAGE MODIFYING LAYER
(FR) PROCÉDÉ D'IMAGERIE HAUTE RÉSOLUTION À L'AIDE D'UNE COUCHE DE MODIFICATION D'IMAGE IN SITU
Abrégé :
(EN) A method of forming a patterned material layer on a substrate. A photoresist layer is formed on the substrate followed by an image modifying material formed on the photoresist. The image modifying material is patterned to form an image modifying pattern. The image modifying pattern and underlying photoresist are then exposed to suitable radiation. The image modifying pattern modifies the image intensity within the photoresist layer beneath the image modifying pattern. The resulting pattern is then transferred into the substrate.
(FR) L'invention concerne un procédé de formation d'une couche de matière à motif sur un substrat. Une couche de photorésist est formée sur le substrat, suivie par une matière de modification d'image formée sur le photorésist. La matière de modification d'image est dessinée pour former un motif de modification d'image. Le motif de modification d'image et le photorésist sous-jacent sont ensuite exposés à un rayonnement approprié. Le motif de modification d'image modifie l'intensité de l'image à l'intérieur de la couche de photorésist au-dessous du motif de modification d'image. Le motif résultant est ensuite transféré dans le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)
Also published as:
KR1020090079190EP2076817JP2010507906CN101523290