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1. (WO2008048928) ProcédéS de formation d'un motif de matériau sur un substrat polymère
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/048928    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/081390
Date de publication : 24.04.2008 Date de dépôt international : 15.10.2007
CIB :
H05K 3/00 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : FREY, Matthew, H.; (US).
NGUYEN, Khanh, P.,; (US)
Mandataire : LOWN, Jean, A.,; 3M Center, Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Données relatives à la priorité :
11/550,542 18.10.2006 US
Titre (EN) METHODS OF PATTERNING A MATERIAL ON POLYMERIC SUBSTRATES
(FR) ProcédéS de formation d'un motif de matériau sur un substrat polymère
Abrégé : front page image
(EN)A method of patterning a first material (110) on a polymeric substrate (105) is described. The method includes providing a polymeric film substrate (105) having a major surface (104) with a relief pattern including a recessed region (108) and an adjacent raised region (106), depositing a first material (110) onto the major surface (104) of the polymeric film substrate (105) to form a coated polymeric film substrate, forming a layer of a functionalizing material (131) selectively on the raised region (10'6) of the coated polymeric film substrate to form a functionallzed raised region and an unfunctionalized recessed region, and etching the first material (110) from the polymeric substrate selectively from the unfunctionalized recessed region.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un motif d'un premier matériau sur un substrat polymère, qui consiste à se procurer un film polymère substrat comportant une surface principale avec un motif en relief comprenant une région en retrait et une région surélevée adjacente, déposer un premier matériau sur la surface principale du film polymère pour former un film polymère revêtu, former sélectivement une couche d'un matériau fonctionnalisant sur la région surélevée du film polymère revêtu pour former une région surélevée fonctionnalisée et une région en retrait non fonctionnalisée, et graver sélectivement le premier matériau dans la région en retrait non fonctionnalisée du substrat polymère.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)