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1. (WO2008048604) ANNEAU DE PROTECTION À QUARTZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/048604    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/022080
Date de publication : 24.04.2008 Date de dépôt international : 16.10.2007
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
LARSON, Dean, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
BROWN, Daniel [US/US]; (US) (US Seulement).
ULLAL, Saurabh, J. [IN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LARSON, Dean, J.; (US).
BROWN, Daniel; (US).
ULLAL, Saurabh, J.; (US)
Mandataire : SKIFF, Peter, K.; Buchanan Ingersoll & Rooney PC, PO Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404 (US)
Données relatives à la priorité :
60/852,345 16.10.2006 US
11/701,430 02.02.2007 US
Titre (EN) QUARTZ GUARD RING
(FR) ANNEAU DE PROTECTION À QUARTZ
Abrégé : front page image
(EN)An electrode assembly for a plasma reaction chamber used in semiconductor substrate processing. The assembly includes an upper electrode, a backing member attachable to an upper surface of the upper electrode, and an outer ring. The outer ring surrounds an outer surface of the backing member and is located above the upper surface of the upper electrode.
(FR)L'invention concerne un ensemble d'électrode pour une chambre de réaction à plasma utilisé dans le traitement d'un substrat semi-conducteur. L'ensemble comprend une électrode supérieure, un élément de renfort pouvant être attaché à la surface supérieure de l'électrode supérieure, et un anneau extérieur. L'anneau extérieur entoure la surface extérieure de l'élément de renfort et est situé au-dessus de la surface supérieure de l'électrode supérieure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)