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1. (WO2008048533) COMPOSITIONS D'ENCRE ET PROCÉDÉS D'UTILISATION DE CES COMPOSITIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/048533    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/021970
Date de publication : 24.04.2008 Date de dépôt international : 12.10.2007
CIB :
C03C 25/10 (2006.01), C08F 290/00 (2006.01), G02B 6/44 (2006.01)
Déposants : HEXION SPECIALTY CHEMICALS, INC. [US/US]; 180 East Broad Street, Columbus, OH 43215 (US) (AE, AG, AL, AM, AU, AZ, BA, BB, BF, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CI, CM, CN, CO, CR, CU, DM, DO, DZ, EC, EG, GA, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GT, GW, HN, HR, ID, IL, IN, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LY, MA, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, RS, RU, SC, SD, SG, SL, SM, SN, SV, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
HEXION SPECIALTY CHEMICALS RESEARCH BELGIUM S.A. [BE/BE]; Avenue Jean Monnet 1, Ottignies, Louvain-la-Neuve (BE) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR only).
WILSON, Daniel, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
EDISON, Sara, E. [US/US]; (US) (US Seulement).
MADHUSOODHANAN, Sudhakar [IN/US]; (US) (US Seulement).
NAGVEKAR, Devdatt, S. [US/US]; (US) (US Seulement).
ELLISON, Matthew, M. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WILSON, Daniel, A.; (US).
EDISON, Sara, E.; (US).
MADHUSOODHANAN, Sudhakar; (US).
NAGVEKAR, Devdatt, S.; (US).
ELLISON, Matthew, M.; (US)
Mandataire : JONES, Lisa, Kimes; Hexion Specialty Chemicals, Inc., 1600 Smith Street, P.O. Box 4500, Houston, TX 77210-4500 (US)
Données relatives à la priorité :
60/829,431 13.10.2006 US
Titre (EN) INK COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF
(FR) COMPOSITIONS D'ENCRE ET PROCÉDÉS D'UTILISATION DE CES COMPOSITIONS
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein are rapid radiation curable ink compositions that can cure at speeds that are greater than the speeds at which other commercially available ink compositions cure. The rapidly curing ink compositions advantageously display an increased cure speed, improved adhesion and solvent resistance when compared with other commercially available compositions. The ink compositions of the invention are substantially free of solvent, and include an ethylenically unsaturated hyperbranched oligomer having an average functionality of at least 6 per oligomer, a difunctional ethylenically unsaturated compound, and a photoinitiator. The ink compositions optionally include a surfactant and/or a vinyl amide monomer.
(FR)L'invention concerne des compositions d'encre à séchage rapide par rayonnement qui peuvent sécher à des vitesses supérieures aux vitesses de séchage des autres compositions d'encre disponibles dans le commerce. Ces compositions d'encre à séchage rapide présentent de façon avantageuse une vitesse de séchage accrue et des propriétés de résistance aux solvants et d'adhérence améliorées comparativement aux autres compositions disponibles dans le commerce. Les compositions d'encre selon l'invention sont sensiblement exemptes de solvants et comprennent un oligomère hyperramifié éthyléniquement insaturé présentant une fonctionnalité moyenne d'au moins 6 par oligomère, un composé éthyléniquement insaturé difonctionnel et un photo-initiateur. Ces compositions d'encre contiennent éventuellement un tensioactif et/ou un monomère d'amide vinylique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)