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1. (WO2008048136) PROCÉDÉ POUR CONTRÔLER L'ÉPAISSEUR D'UN FILM PENDANT SON APPLICATION PAR DÉPÔT DANS UNE CHAMBRE À VIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/048136    N° de la demande internationale :    PCT/RU2006/000643
Date de publication : 24.04.2008 Date de dépôt international : 30.11.2006
CIB :
G01B 11/06 (2006.01)
Déposants : FEDERALNOE GOSUDARSTVENNOE OBRAZOVATELNOE UCHREZHDENIE VYSCHEGO PROFESSIONALNOGO OBRAZOVANIYA 'ROSSYSKY GOSUDARSTVENNY UNIVERSITET IM. I. KANTA' [RU/RU]; ul. A. Nevskogo, 14 Kaliningrad, 236016 (RU) (Tous Sauf US).
KORNEV, Konstantin Petrovich [RU/RU]; (RU) (US Seulement).
KORNEVA, Irina Pavlovna [RU/RU]; (RU) (US Seulement)
Inventeurs : KORNEV, Konstantin Petrovich; (RU).
KORNEVA, Irina Pavlovna; (RU)
Mandataire : VOSTRIKOV, Gennadi Fedorovich; "Techneed" Intellectual Property Agency Co. Ltd. Leningradsky pr-t, 47 Moscow, 125167 (RU)
Données relatives à la priorité :
2006136761 18.10.2006 RU
Titre (EN) METHOD FOR CHECKING A FILM THICKNESS DURING THE APPLICATION THEREOF BY EVAPORATING IN A VACUUM CHAMBER
(FR) PROCÉDÉ POUR CONTRÔLER L'ÉPAISSEUR D'UN FILM PENDANT SON APPLICATION PAR DÉPÔT DANS UNE CHAMBRE À VIDE
(RU) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПЛЕНКИ В ПРОЦЕССЕ ЕЕ НАНЕСЕНИЯ ОСАЖДЕНИЕМ В ВАКУУМНОЙ КАМЕРЕ
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to instrumentation engineering and can be used for controlling a film thickness during the application thereof by evaporating in a vacuum chamber. The inventive method consists in controlling the thickness of films of a multi-layer optical coating during the application thereof by evaporating in a vacuum chamber on three λ0, λ1 and λ2 wavelengths, which satisfy the relationship 1/λ1 +1/λ2 = 2/λ0, wherein λ0 is the reference wavelength for a evaporated film (of a multi-layer coating), in recording the difference of photoelectric signals for the λ1 and λ2 wavelengths, in determining the extremum of a transmittance (reflectance) factor for the third λ0 wavelength and in receiving a signal for interrupting the deposition process when the extremum of a transmittance (reflectance) factor on the wavelength λ0 and the equal-zero difference of the transmittance (reflectance) factors on the λ1 and λ2 wavelengths is simultaneously attained. Said method makes it possible to increase the checking accuracy of the evaporated film thickness.
(FR)La présente invention concerne le domaine des équipements de contrôle et de mesure et peut s'utiliser pour contrôler l'épaisseur d'un film pendant son application par dépôt dans une chambre à vide. Le contrôle de l'épaisseur des films d'un revêtement optique à couches multiples pendant son application par voie de dépôt dans une chambre à vide s'effectue sur trois longueurs d'ondes λ0, λ1 et λ2, qui correspondent à l'équation 1/λ1 + 1/λ2=2/λ0, dans laquelle λ0 est une longueur d'onde de référence pour le film déposé (le revêtement multicouches). On fixe la différence des signaux radioélectriques pour les longueurs d'ondes λ1 et λ2, et on trouve la valeur extrême du coefficient de passage (de réflexion). Le signal de fin de processus de dépôt est reçu lorsque la valeur extrême est atteinte pour le coefficient de réflexion (d'absorption) sur la longueur d'onde λ0 et, simultanément, la différence des coefficients de réflexion (d'absorption) pour les longueurs d'ondes λ1 et λ2 devient égale à zéro. Le procédé permet d'assurer la précision de contrôle de l'épaisseur du film déposé.
(RU)Предлагаемый способ относится к области контрольно-измерительной техники, и может быть использован для контроля толщины пленки в процессе ее нанесения путем осаждения в вакуумной камере. Контроль толщины пленок многослойного оптического покрытия в процессе нанесения осаждением в вакуумной камере осуществляют на трех длинах волн λ0, λ1 и λ2, удовлетворяющих соотношению 1/ λ1 + 1/ λ2 = 2/ λ0, где λ0 – контрольная длина волны для напыляемой пленки (многослойного покрытия). При этом, для двух длин волн λ1 и λ2 фиксируют разность фотоэлектрических сигналов, а для третьей - λ0, находят экстемум коэффициента пропускания (отражения). Сигнал на прекращение процесса напыления получают при одновременном достижении экстремума коэффициента отражения (поглощения) на длине волны λ0 и равенства нулю разности коэффициентов отражения (поглощения) при длинах волн λ1 и λ2.Способ обеспечивает повышение точности контроля толщины напыляемой пленки.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : russe (RU)
Langue de dépôt : russe (RU)