WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008047910) ÉCRAN À PLASMA ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/047910    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/070452
Date de publication : 24.04.2008 Date de dépôt international : 19.10.2007
CIB :
H01J 11/22 (2012.01), H01J 11/24 (2012.01), H01J 11/34 (2012.01), H01J 11/40 (2012.01)
Déposants : PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
TERAUCHI, Masaharu; (US Seulement).
FUKUI, Yusuke; (US Seulement).
TSUJITA, Takuji; (US Seulement).
OKAFUJI, Michiko; (US Seulement).
NISHITANI, Mikihiko; (US Seulement)
Inventeurs : TERAUCHI, Masaharu; .
FUKUI, Yusuke; .
TSUJITA, Takuji; .
OKAFUJI, Michiko; .
NISHITANI, Mikihiko;
Mandataire : NAKAJIMA, Shiro; 6F, Yodogawa 5-Bankan, 2-1, Toyosaki 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5310072 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-286983 20.10.2006 JP
Titre (EN) PLASMA DISPLAY PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURE THEREOF
(FR) ÉCRAN À PLASMA ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) プラズマディスプレイパネルとその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a PDP which has a protective layer having an improved discharge property and therefore can show an excellent image display performance even when the PDP has a high-resolution cell structure. Also disclosed is a method for manufacturing the PDP. Specifically, the protective layer (8) is composed of a MgO film layer (81) and a MgO crystal particle layer (82) comprising MgO crystal particles (16). The MgO crystal particles (16) are prepared in accordance with a production method employing MgO precursor firing, in such a manner that the ratio a/b becomes 1.2 or greater, wherein 'a' represents a spectrum integral value in a wavelength range of not less than 650 nm and less than 900 nm and 'b' represents a spectrum integral value in a wavelength range of not less than 300 nm and less than 550 nm both in the determination of a CL.
(FR)La présente invention concerne un écran à plasma qui possède une couche protectrice possédant une propriété de décharge améliorée et qui est donc en mesure de montrer une excellente prestation en termes d'affichage d'image même lorsque l'écran à plasma possède une structure cellulaire à haute résolution. Elle concerne aussi un procédé de fabrication de l'écran à plasma. De manière spécifique, la couche protectrice (8) est composée d'une couche de film de MgO (81) et d'une couche de particules de cristaux de MgO (82) comprenant des particules de cristaux de MgO (16). Les particules de cristaux de MgO (16) sont préparées selon un procédé de production employant la cuisson de précurseur de MgO, de telle manière à ce que le rapport a/b devienne 1,2 ou plus, 'a' représentant une valeur intégrale de spectre dans une gamme de longueur d'onde non inférieure à 650 nm et inférieure à 900 nm et 'b' représentant une valeur intégrale de spectre dans une gamme de longueur d'onde non inférieure à 300 nm et inférieure à 550 nm dans la détermination d'un CL.
(JA) 本発明は、保護層における放電特性を改善することにより、高精細セル構造においても優れた画像表示性能を発揮することが可能なPDPとその製造方法を提供することを目的とするものである。  具体的には、保護層8をMgO膜層81と、MgO結晶粒子群16からなるMgO結晶粒子層82で構成する。MgO結晶粒子群16は、MgO前駆体焼成による作製方法に基づき、CL測定における650nm以上900nm未満の波長領域のスペクトル積分値をa、300nm以上550nm未満の波長領域のスペクトル積分値をbとするとき、比率a/bが1.2以上である特性を持つように作製する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)