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1. (WO2008047695) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE RÉCUPÉRATION DE SUBSTRAT, PROGRAMME ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT LISIBLE PAR ORDINATEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/047695    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/069915
Date de publication : 24.04.2008 Date de dépôt international : 12.10.2007
CIB :
H01L 51/50 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAJIMA, Yoshinori; (US Seulement).
TAMURA, Toshihiro; (US Seulement)
Inventeurs : NAKAJIMA, Yoshinori; .
TAMURA, Toshihiro;
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-283126 17.10.2006 JP
Titre (EN) SUBSTRATE RECOVERY SYSTEM, SUBSTRATE RECOVERY METHOD, PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM
(FR) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE RÉCUPÉRATION DE SUBSTRAT, PROGRAMME ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT LISIBLE PAR ORDINATEUR
(JA) 基板修復システム、基板修復方法、プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
Abrégé : front page image
(EN)A substrate recovery system can improve a recovery tact time and eliminate unnecessary recovery process, thereby performing an effective recovery process. The substrate recovery system (1) includes a defect information acquisition unit (2) which acquires defect information on the entire region of an object substrate (9); a recovery unit (3) having at least one liquid drop discharge unit (6) for dropping a liquid drop onto a defective part on the object substrate (9) according to the defect information acquired by the defect information acquisition unit (2); and a recovery judging unit (4) which judges whether a recovery operation by the recovery unit (3) is required for each of the object substrates (9) according to the defect information acquired by the defect information acquisition unit (2).
(FR)Cette invention porte sur un système de récupération de substrat pouvant améliorer une cadence de récupération et éliminer un procédé de récupération inutile, permettant ainsi d'effectuer un procédé de récupération efficace. Le système de récupération de substrat (1) comprend une unité (2) d'acquisition d'informations de défaut qui acquiert des informations de défaut sur la région entière d'un substrat objet (9) ; une unité (3) de récupération ayant au moins une unité (6) de décharge de gouttes de liquide pour faire tomber une goutte de liquide sur la partie défectueuse du substrat objet (9) en fonction des informations de défaut acquises par l'unité (2) d'acquisition d'informations de défaut ; et une unité (4) de détermination de récupération qui détermine si une opération de récupération par l'unité (3) de récupération est nécessaire ou non pour chacun des substrats objets (9) en fonction des informations de défaut acquises par l'unité (2) d'acquisition d'informations de défaut.
(JA) 修復のタクトタイムを向上させるとともに、不要な修復処理を行うことを防止して、効率的な修復処理が行える基板修復システムは、基板修復システム(1)は、対象基板(9)上の全域にわたる欠陥情報を取得する欠陥情報取得ユニット(2)と、欠陥情報取得ユニット(2)によって取得された欠陥情報に基づいて、対象基板(9)上の欠陥部に液滴を滴下する1個以上の液滴吐出ユニット(6)を有する修復ユニット(3)と、欠陥情報取得ユニット(2)によって取得された欠陥情報に基づいて、修復ユニット(3)による修復動作の要否を対象基板(9)毎に判定する修復判定ユニット(4)とを備えている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)