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1. (WO2008047507) DISPOSITIF D'ÉTANCHÉITÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/047507    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/065482
Date de publication : 24.04.2008 Date de dépôt international : 08.08.2007
CIB :
F16J 15/32 (2006.01), F16C 33/78 (2006.01)
Déposants : NOK CORPORATION [JP/JP]; 12-15, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058585 (JP) (Tous Sauf US).
KUZUMAKI, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHUTO, Yuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IMAMOTO, Yoshimi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KUZUMAKI, Yoshihiro; (JP).
SHUTO, Yuichi; (JP).
IMAMOTO, Yoshimi; (JP)
Mandataire : NOMOTO, Yoichi; NOMOTO INTERNATIONAL PATENT OFFICE Terao Building, 8-4, Nishi-Shinbashi 2-chome Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-281241 16.10.2006 JP
Titre (EN) SEALING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ÉTANCHÉITÉ
(JA) 密封装置
Abrégé : front page image
(EN)A sealing device with a side lip contacting with a surface angled relative to its axis in which the cross sectional shape of the side lip is optimized. Where the thickness of the tip end (5c) of the side lip (5) is T1, the thickness of the base (5a) of the lip (5) is T3, the length of the tip end (5c) is L1, and the length of the base (5a) is L2, T1/T3 is set to be not less than 0.7 and less than 0.8 and L2/L1 is set to be not less than 0.5 and less than 0.6.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'étanchéité doté d'une lèvre latérale en contact avec une surface inclinée par rapport à son axe, la forme de la section de la lèvre latérale étant optimisée. Là où l'épaisseur de l'extrémité (5c) de la lèvre latérale (5) est T1, l'épaisseur de la base (5a) de la lèvre (5) est T3, la longueur de l'extrémité de pointe (5c) est L1, et la longueur de la base (5a) est L2, T1/T3 est fixé pour ne pas être inférieur à 0,7 et être inférieur à 0,8 et L2/L1 est fixé pour ne pas être inférieur à 0,5 et être inférieur à 0,6.
(JA) 軸に対して角度をもつ面に接するサイドリップを有する密封装置において、このサイドリップの断面形状を最適化することを目的とする。この目的を達成するため、サイドリップ5におけるリップ先端部5cの厚さをT、リップ根元部5aの厚さをT、リップ先端部5cの長さをL、リップ根元部5aの長さをLとして、T/Tを0.7以上0.8未満、L/Lを0.5以上0.6未満に設定する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)