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1. (WO2008044742) SOLUTION DE REVÊTEMENT POUR FORMER UN FILM DE REVÊTEMENT DE FAIBLE RÉFRACTION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELLE-CI, ET MATÉRIAU ANTI-RÉFLEXION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/044742    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/069882
Date de publication : 17.04.2008 Date de dépôt international : 11.10.2007
CIB :
C09D 183/08 (2006.01), C09D 5/00 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 183/02 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP) (Tous Sauf US).
TANI, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MOTOYAMA, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TANI, Yoshihiro; (JP).
MOTOYAMA, Kenichi; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square 17, Kanda-konyacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-279219 12.10.2006 JP
Titre (EN) COATING SOLUTION FOR FORMATION OF LOW REFRACTIVE COATING FILM, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, AND ANTI-REFLECTION MATERIAL
(FR) SOLUTION DE REVÊTEMENT POUR FORMER UN FILM DE REVÊTEMENT DE FAIBLE RÉFRACTION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELLE-CI, ET MATÉRIAU ANTI-RÉFLEXION
(JA) 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a coating solution for the coating film formation, which can be cured at a low temperature even on a substrate having a high water contact angle and enables to form a coating film having high light permeability, high hardness, excellent scratch resistance and a low refractivity. Also disclosed is a process for producing the coating solution. Further disclosed is an anti-reflection material prepared by using the coating film. Specifically disclosed is a coating solution for forming a low refractive coating film, which comprises (A) a polysiloxane having a silicon atom to which a fluorinated organic group is attached, (B) a long-chain amine compound having 9 to 20 carbon atoms, and (C) an organic solvent in which the polysiloxane (A) and the long-chain amine compound (B) are dissolved.
(FR)La présente invention concerne une solution de revêtement pour former un film de revêtement, qui peut être vulcanisé à faible température même sur un substrat ayant un angle de contact avec l'eau élevé et qui permet de former un film de revêtement ayant une perméabilité à la lumière élevée, une dureté élevée, une excellente résistance aux rayures et une faible réfractivité. L'invention concerne également un procédé de production de la solution de revêtement. L'invention concerne en outre un matériau anti-réflexion préparé en utilisant le film de revêtement. L'invention concerne spécifiquement une solution de revêtement pour former un film de revêtement de faible indice de réfraction, qui comprend (A) un polysiloxane ayant un atome de silicium auquel est attaché un groupe organique fluoré, (B) un composé à longue chaîne aminée ayant de 9 à 20 atomes de carbone, et (C) un solvant organique dans lequel le polysiloxane (A) et le composé à longue chaîne aminée (B) sont dissous.
(JA) 水接触角が高い基材上でも低い温度で硬化し、高光透過性)、高硬度の耐擦傷性に優れる低屈折率を有する被膜を形成できる被膜形成用塗布液、その製造方法、及び該被膜を使用する反射防止材を提供する。  含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するポリシロキサン(A)と、炭素数が9~20の長鎖アミン化合物(B)とを含有し、それらが有機溶媒(C)に溶解されてなることを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)