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1. (WO2008044626) CIBLE DE PULVÉRISATION DE FRITTAGE D'ALLIAGE À BASE DE Sb-Te
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/044626    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/069550
Date de publication : 17.04.2008 Date de dépôt international : 05.10.2007
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), C22C 28/00 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01)
Déposants : Nippon Mining & Metals Co., Ltd. [JP/JP]; 10-1, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP) (Tous Sauf US).
YAHAGI, Masataka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHASHI, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AJIMA, Hirohisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAHAGI, Masataka; (JP).
TAKAHASHI, Hideyuki; (JP).
AJIMA, Hirohisa; (JP)
Mandataire : OGOSHI, Isamu; OGOSHI International Patent Office Daini-Toranomon Denki Bldg., 5F 3-1-10 Toranomon, Minato-ku Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-279416 13.10.2006 JP
Titre (EN) Sb-Te BASE ALLOY SINTER SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION DE FRITTAGE D'ALLIAGE À BASE DE Sb-Te
(JA) Sb-Te基合金焼結体スパッタリングターゲット
Abrégé : front page image
(EN)An antimony-tellurium base alloy sinter sputtering target comprising antimony and tellurium as major components, characterized in that it has a structure comprising antimony-tellurium base alloy particles and fine carbon or boron particles with which the alloy particles are surrounded, and that when the average diameter of the antimony-tellurium base alloy particles and the particle diameter of the carbon or boron are expressed by X and Y, respectively, then Y/X is in the range of from 1/10 to 1/10,000. The antimony-tellurium base alloy sinter sputtering target has the improved structure, is inhibited from cracking, and prevents arcing from occurring during sputtering.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation de frittage d'alliage à base d'antimoine et de tellure comprenant de l'antimoine et du tellure en tant que composants principaux, caractérisée en ce qu'elle présente une structure comprenant des particules d'alliage à base d'antimoine et de tellure et de fines particules de carbone ou de bore qui entourent les particules d'alliage, et en ce que le diamètre moyen des particules d'alliage à base d'antimoine et de tellure et le diamètre des particules de carbone ou de bore sont exprimés par X et Y, respectivement, Y/X étant compris dans l'intervalle allant de 1/10 à 1/10 000. La cible de pulvérisation de frittage d'alliage à base d'antimoine et de tellure présente une structure améliorée, est protégée contre la fissuration, et empêche qu'une brûlure se produise durant la pulvérisation.
(JA) Sb-Te基合金焼結体スパッタリングターゲットにおいて、Sb-Te基合金粒子の周囲に微小なカーボン又はボロンの粒子が包囲する組織を備え、Sb-Te基合金粒子の平均径をX、カーボン又はボロンの粒子径をYとした場合、Y/Xが1/10~1/10000の範囲にあることを特徴とするSb及びTeを主成分とするSb-Te基合金焼結体スパッタリングターゲット。Sb-Te基合金スパッタリングターゲット組織の改善を図り、焼結ターゲットのクラック発生を抑制し、スパッタリング時にアーキングの発生を防止する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)