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1. (WO2008044030) RÉGLAGE DE LA HAUTEUR D'UNE PIÈCE À USINER DANS UNE MACHINE DE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/044030    N° de la demande internationale :    PCT/GB2007/003866
Date de publication : 17.04.2008 Date de dépôt international : 11.10.2007
CIB :
H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
Déposants : VISTEC LITHOGRAPHY INC [US/US]; Suite 214, 44 Dalliba Avenue, Waltervliet Arsenal, Waltervliet NY 12189-405 (US) (Tous Sauf US).
HARRIS, Paul, George [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
TINGAY, John, Melbourne [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : HARRIS, Paul, George; (GB).
TINGAY, John, Melbourne; (GB)
Mandataire : WALTHER WOLFF & CO; 19 Catherine Place, London SW1E 6DX (GB)
Données relatives à la priorité :
0620287.3 12.10.2006 GB
Titre (EN) WORKPIECE HEIGHT ADJUSTMENT IN AN ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY MACHINE
(FR) RÉGLAGE DE LA HAUTEUR D'UNE PIÈCE À USINER DANS UNE MACHINE DE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Abrégé : front page image
(EN)An electron beam lithography machine (10) comprises a column (11) for generating an electron beam (12), a stage (17) for carrying a workpiece (15) to be acted on by the beam, for example for writing a pattern, vertical displacing means (20) for displacing the stage (17) in substantially vertical direction towards and away from the column and a detector (35) for detecting the relationship of a reference plane (A) associated with the column and a reference plane (B) associated with the stage (17) and causing the displacing means (20) to displace the stage in dependence on the detected relationship. The reference planes can be, for example, a writing plane (A) of the beam (12) and a top surface plane (B) of the workpiece (15), which can be brought into coincidence prior to, for example, pattern-writing on workpieces with different thicknesses.
(FR)Machine de lithographie (10) par faisceau d'électrons, comprenant une colonne (11) conçue pour générer un faisceau d'électrons (12) ; une platine (17) conçue pour porter une pièce à usiner (15) destinée à être soumise à l'action du faisceau, notamment pour graver un motif ; un moyen de déplacement vertical (20) conçu pour déplacer la platine (17) dans une direction sensiblement verticale en direction et à l'écart de la colonne ; et un détecteur (35) conçu pour détecter la relation entre un plan de référence (A) associé à la colonne et un plan de référence (B) associé à la platine (17) et pour amener le moyen de déplacement vertical (20) à déplacer la platine en fonction de la relation détectée. Les plans de référence peuvent être, par exemple, un plan de gravure (A) du faisceau (12) et un plan de surface de dessus (B) de la pièce à usiner (15), lesquels peuvent être mis en coïncidence notamment préalablement à la gravure de motifs sur des pièces à usiner d'épaisseurs différentes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)