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1. (WO2008042295) SUPPORT PERMETTANT DE RÉDUIRE DES MARQUES D'ENTRÉE ET/OU DE SORTIE LAISSÉES PAR UN MÉNISQUE DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/042295    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/021003
Date de publication : 10.04.2008 Date de dépôt international : 27.09.2007
CIB :
H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6470 (US) (Tous Sauf US).
O'DONNELL, Robert [US/US]; (US) (US Seulement).
LENZ, Eric [US/US]; (US) (US Seulement).
WILCOXSON, Mark [US/US]; (US) (US Seulement).
RAVKIN, Mike [US/US]; (US) (US Seulement).
YATSKAR, Alexander, A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : O'DONNELL, Robert; (US).
LENZ, Eric; (US).
WILCOXSON, Mark; (US).
RAVKIN, Mike; (US).
YATSKAR, Alexander, A.; (US)
Mandataire : WRIGHT, Kenneth; Martine Penilla & Gencarella, LLP, 710 Lakeway Drive, Suite 200, Sunnyvale, CA 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
11/537,501 29.09.2006 US
Titre (EN) CARRIER FOR REDUCING ENTRANCE AND/OR EXIT MARKS LEFT BY A SUBSTRATE-PROCESSING MENISCUS
(FR) SUPPORT PERMETTANT DE RÉDUIRE DES MARQUES D'ENTRÉE ET/OU DE SORTIE LAISSÉES PAR UN MÉNISQUE DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A carrier for supporting a substrate during processing by a meniscus formed by upper and lower proximity heads is described. The carrier includes a frame having an opening sized for receiving a substrate and a plurality of support pins for supporting the substrate within the opening. The opening is slightly larger than the substrate such that a gap exists between the substrate and the opening. Means for reducing a size and frequency of entrance and/or exit marks on substrates is provided, the means aiding and encouraging liquid from the meniscus to evacuate the gap. A method for reducing the size and frequency of entrance and exit marks is also provided.
(FR)La présente invention concerne un support permettant de soutenir un substrat au cours d'un traitement par un ménisque formé par des têtes de proximité supérieures et inférieures. Le support comprend un cadre qui présente une ouverture conçue pour recevoir un substrat et plusieurs tenons de support qui sont conçus pour soutenir le substrat dans l'ouverture. L'ouverture est légèrement plus grande que le substrat, de manière à laisser un interstice entre le substrat et l'ouverture. Des moyens sont prévus pour réduire la taille et la fréquence de marques d'entrée et/ou de sortie sur des substrats, lesquels moyens aident et encouragent le liquide du ménisque à quitter l'interstice. Cette invention concerne également un procédé permettant de réduire la taille et la fréquence de marques d'entrée et/ou de sortie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)