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1. (WO2008042194) FORMATION DE BARRES DE BUS POUR MODULE PHOTOVOLTAÏQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/042194    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/020801
Date de publication : 10.04.2008 Date de dépôt international : 26.09.2007
CIB :
H01L 31/00 (2006.01)
Déposants : SUNPOWER CORPORATION [US/US]; 3939 North First Street, San Jose, CA 95134 (US) (Tous Sauf US).
ROSE, Douglas [US/US]; (US) (US Seulement).
DAROCZI, Shan [US/US]; (US) (US Seulement).
PHU, Thomas [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ROSE, Douglas; (US).
DAROCZI, Shan; (US).
PHU, Thomas; (US)
Mandataire : OVANEZIAN, Daniel, E.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP, 1279 Oakmead Parkway, Sunnyvale, CA 94085-4040 (US)
Données relatives à la priorité :
11/543,440 03.10.2006 US
Titre (EN) FORMED PHOTOVOLTAIC MODULE BUSBARS
(FR) FORMATION DE BARRES DE BUS POUR MODULE PHOTOVOLTAÏQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method and apparatus directed to busbar components for photovoltaic modules.
(FR)L'invention porte sur un procédé et un appareil permettant de former des composants de barres de bus pour modules photovoltaïques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)