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1. (WO2008042032) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR DÉLIVRER UN ÉCOULEMENT DE FLUIDE UNIFORME DANS UN SYSTÈME DE DÉPÔT CHIMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/042032    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/015979
Date de publication : 10.04.2008 Date de dépôt international : 12.07.2007
CIB :
C23C 16/00 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), B05D 3/10 (2006.01)
Déposants : NOVELLUS SYSTEMS, INC. [US/US]; 4000 North First Street, San Jose, California 95134 (US) (Tous Sauf US).
JOHANSON, William [US/US]; (US) (US Seulement).
MAZZOCCO, John [US/US]; (US) (US Seulement).
COHEN, David [US/US]; (US) (US Seulement).
PRATT, Thomas, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
LIND, Gary [US/US]; (US) (US Seulement).
KROTOV, Peter [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : JOHANSON, William; (US).
MAZZOCCO, John; (US).
COHEN, David; (US).
PRATT, Thomas, M.; (US).
LIND, Gary; (US).
KROTOV, Peter; (US)
Mandataire : AUSTIN, James, E.; Beyer Weaver LLP, 500 12th Street Suite 200, Oakland, California 94607 (US)
Données relatives à la priorité :
11/542,959 03.10.2006 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR DELIVERING UNIFORM FLUID FLOW IN A CHEMICAL DEPOSITION SYSTEM
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR DÉLIVRER UN ÉCOULEMENT DE FLUIDE UNIFORME DANS UN SYSTÈME DE DÉPÔT CHIMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Uniform fluid delivery to a substrate is provider using a diffuser. The diffuser is designed with a series of fluid (gas and/or liquid) passages of equal effective length/flow resistance, such that as the fluid passes through the diffuser, the gas exits all areas at the same time and with the same mass flux. These passages may not be physically the same, however they have the same effective length and flow resistance. The diffuser can be implemented using single or multiple stacked layers, and from several to many passages. The net effect is a uniform gas curtain to the wafer. Since the passages through the diffuser are effectively the same, the uniform gas curtain to the wafer is not sensitive to the quantity of gas, the gas flow rate or the gas pressure. Additionally, a faceplate can optionally be used to smooth out any jet effects of the diffuser exit holes.
(FR)L'invention concerne un procédé pour délivrer un fluide uniforme à un substrat à l'aide d'un diffuseur. Le diffuseur présente une série de passages fluidique (gaz et/ou liquide) de résistance à l'écoulement/longueur utile égale de sorte que, lorsque le fluide passe à travers le diffuseur, le gaz est projeté de toutes les zones en même temps et avec le même flux de masse. Ces passages peuvent ne pas être identiques physiquement, mais ils présentent la même longueur utile et la même résistance à l'écoulement. Le diffuseur peut être mis en œuvre en utilisant des couches empilées uniques ou multiples, et un nombre plus ou moins grand de passages. L'effet net est la projection d'un rideau de gaz uniforme sur la plaquette. Les passages du diffuseur étant effectivement les mêmes, le rideau de gaz uniforme projeté sur la plaquette n'est pas sensible à la quantité, au débit ou à la pression du gaz. En outre, une plaque avant peut facultativement être utilisée pour atténuer tout effet de jet des trous de sortie du diffuseur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)