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1. (WO2008041734) ESTER D'ALKYLE TERTIAIRE D'ACIDE OXODIBENZOXÉPINACÉTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/041734    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/069412
Date de publication : 10.04.2008 Date de dépôt international : 27.09.2007
CIB :
C07D 313/12 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (Tous Sauf US).
KATSURA, Tadashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HAYASHI, Taketo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Masahide [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KATSURA, Tadashi; (JP).
HAYASHI, Taketo; (JP).
TANAKA, Masahide; (JP)
Mandataire : ENOMOTO, Masayuki; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited 5-33, Kitahama 4-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5418550 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-271311 02.10.2006 JP
Titre (EN) TERTIARY ALKYL ESTER OF OXODIBENZOXEPIN ACETIC ACID
(FR) ESTER D'ALKYLE TERTIAIRE D'ACIDE OXODIBENZOXÉPINACÉTIQUE
(JA) オキソジベンゾオキセピン酢酸の第3級アルキルエステル
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a tertiary alkyl ester represented by the formula (2) below and a method for producing such a tertiary alkyl ester. (In the formula, R1 and R2 independently represent an alkyl group having 1-4 carbon atoms.)
(FR)La présente invention concerne un ester d'alkyle tertiaire représenté par la formule (2) et un procédé de production d'un tel ester d'alkyle tertiaire. (2) (Dans la formule, R1 et R2 représentent indépendamment un groupe alkyle possédant de 1 à 4 atomes de carbone.)
(JA)式(2):(式中、R、Rはそれぞれ独立して炭素数1~4のアルキル基を示す。)で表される第3級アルキルエステル及びその製造法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)