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1. (WO2008041713) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ AYANT UN GROUPE FLUOROSULFONYLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/041713    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/069311
Date de publication : 10.04.2008 Date de dépôt international : 02.10.2007
CIB :
C07C 303/02 (2006.01), C07C 309/81 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome Chiyoda-ku Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
IWAYA, Masao [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IWAYA, Masao; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square 17, Kanda-konyacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-272903 04.10.2006 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING COMPOUND HAVING FLUOROSULFONYL GROUP
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ AYANT UN GROUPE FLUOROSULFONYLE
(JA) フルオロスルホニル基を有する化合物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a compound having a fluorosulfonyl group (perfluoroethenesulfonyl fluoride: CF2=CFSO2F). Specifically disclosed is a method for producing CF2=CFSO2F, wherein a compound represented by the formula (1) below is subjected to a ring-opening reaction and then to a thermal decomposition reaction. Also specifically disclosed is a method for producing CF2=CFSO2F, wherein a compound represented by the formula (1) below is subjected to a ring-opening reaction, thereby obtaining a compound represented by the formula (2) below, and then the compound (2) is subjected to a thermal decomposition reaction. Further specifically disclosed is a method for producing CF2=CFSO2F, wherein the compound (2) or a compound represented by the formula (2m) below is subjected to a thermal decomposition reaction. (In the formulae below, X represents -OSO2F, -Cl, -Br or -I; and M represents an alkali metal atom.)
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un composé ayant un groupe fluorosulfonyle (fluorure de perfluoroéthènesulfonyle : CF2=CFSO2F). Est décrit de façon spécifique un procédé de fabrication de CF2=CFSO2F, dans lequel un composé représenté par la formule (1) ci-après est soumis à une réaction d'ouverture de cycle, puis à une réaction de décomposition thermique. Est également spécifiquement décrit un procédé de fabrication de CF2=CFSO2F, dans lequel un composé représenté par la formule (1) ci-après est soumis à une réaction d'ouverture de cycle, permettant ainsi d'obtenir un composé représenté par la formule (2) ci-après, puis le composé (2) est soumis à une réaction de décomposition thermique. Est également spécifiquement décrit un procédé de fabrication de CF2=CFSO2F, dans lequel le composé (2) ou un composé représenté par la formule (2m) ci-après est soumis à une réaction de décomposition thermique. (Dans les formules ci-après X représente -OSO2F, -Cl, -Br ou -I; et M représente un atome de métal alcalin
(JA) フルオロスルホニル基を有する化合物(ペルフルオロエテンスルホニルフルオリド:CF=CFSOF)の製造方法を提供する。  下記化合物(1)を開環反応させ、熱分解反応させるCF=CFSOFの製造方法、下記化合物(1)を開環反応させて下記化合物(2)を得て、つぎに化合物(2)を熱分解反応させるCF=CFSOFの製造方法、化合物(2)または下記化合物(2m)を熱分解反応させるCF=CFSOFの製造方法(ただし、式中、Xは-OSOF、-Cl、-Brまたは-Iを、Mはアルカリ金属原子を、示す。)。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)