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1. (WO2008040666) REVÊTEMENT TRANSPARENT EN SiO2 POREUX POUR UN MATÉRIAU DE SUBSTRAT TRANSPARENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/040666    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/060187
Date de publication : 10.04.2008 Date de dépôt international : 26.09.2007
CIB :
G02B 1/11 (2006.01)
Déposants : SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2, 80333 München (DE) (Tous Sauf US).
BERNDT, Anett [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
EDER, Florian [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FEUCHT, Hans-Dieter [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BERNDT, Anett; (DE).
EDER, Florian; (DE).
FEUCHT, Hans-Dieter; (DE)
Représentant
commun :
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT; Postfach 22 16 34, 80506 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 046 308.0 29.09.2006 DE
Titre (DE) TRANSPARENTE PORÖSE SiO2-BESCHICHTUNG FÜR EIN TRANSPARENTES SUBSTRATMATERIAL
(EN) TRANSPARENT POROUS SiO2 COATING FOR A TRANSPARENT SUBSTRATE MATERIAL
(FR) REVÊTEMENT TRANSPARENT EN SiO2 POREUX POUR UN MATÉRIAU DE SUBSTRAT TRANSPARENT
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine transparente poröse SiO2-Beschichtung für ein transparentes Substratmaterial wie beispielsweise Polycarbonat, welche vorteilhafte antireflektive Eigenschaften besitzt. Eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung mittels eines Sol-Gel-Verfahrens hergestellt wird, wobei während zumindest eines Teils des Sol-Gel-Prozesses mindestens eine porositätsverursachende Komponente vorhanden ist, die nach Beendigung des Sol-Gel-Prozesses entfernt und/oder zerstört wird. Die mindestens eine porositätsverursachende Komponente ist ein Polymer, wobei die durchschnittliche Molmasse des Polymers bevorzugt ≥5.000 Da bis ≤50.000 Da, noch bevorzugt ≥10.000 Da bis ≤20.000 Da beträgt.
(EN)The present invention relates to a transparent porous SiO2 coating for a transparent substrate material, for example polycarbonate, which has advantageous antireflective properties. A preferred embodiment of the invention is characterized in that the coating is produced by means of a sol-gel process, at least one component which causes porosity being present during at least part of the sol-gel process and being removed and/or destroyed after the sol-gel process has ended. The at least one component which causes porosity is a polymer, the average molar mass of the polymer being preferably ≥ 5000 Da to ≤ 50 000 Da, more preferably ≥10 000 Da to ≤ 20 000 Da.
(FR)La présente invention concerne un revêtement transparent en SiO2 poreux pour un matériau de substrat transparent tel que du polycarbonate par exemple, lequel revêtement présente avantageusement des propriétés antiréfléchissantes. Un mode de réalisation avantageux de l'invention se caractérise en ce que le revêtement est fabriqué à l'aide d'un procédé au Sol-Gel, au moins une partie du procédé au Sol-Gel impliquant la présence d'au moins un composant provoquant de la porosité, lequel est éliminé et/ou détruit à la fin du procédé au Sol-Gel. Ce(s) composant(s) provoquant de la porosité est un polymère dont la masse molaire moyenne est de préférence comprise entre ≥5 000 Da et ≤50 000 Da, et encore mieux entre ≥10 000 Da et ≤ 20 000 Da.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)