WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008039960) COMPOSÉS ORGANOMÉTALLIQUES HÉTÉROLEPTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/039960    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/079804
Date de publication : 03.04.2008 Date de dépôt international : 28.09.2007
CIB :
C07F 7/10 (2006.01), C07F 7/00 (2006.01), C07F 19/00 (2006.01), C23C 16/00 (2006.01)
Déposants : PRAXAIR TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 39 Old Ridgebury Road, Danbury, CT 06810-5113 (US) (Tous Sauf US).
MEIERE, Scott, Houston [US/US]; (US) (US Seulement).
PECK, John [US/US]; (US) (US Seulement).
SPOHN, Ronald, F. [US/US]; (US) (US Seulement).
THOMPSON, David, M. [CA/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MEIERE, Scott, Houston; (US).
PECK, John; (US).
SPOHN, Ronald, F.; (US).
THOMPSON, David, M.; (US)
Mandataire : COON, Gerald, L.; Praxair, Inc., Law Department, M1, 39 Old Ridgebury Road, Danbury, CT 06810 (US)
Données relatives à la priorité :
60/847,610 28.09.2006 US
11/899,784 07.09.2007 US
Titre (EN) HETEROLEPTIC ORGANOMETALLIC COMPOUNDS
(FR) COMPOSÉS ORGANOMÉTALLIQUES HÉTÉROLEPTIQUES
Abrégé : front page image
(EN)This invention relates to organometallic compounds represented by the formula (L1)XM(L2)y wherein M is a metal or metalloid, L1 and L2 are different and are each a hydrocarbon group or a heteroatom-containing group; x is a value of at least 1; y is a value of at least 1; x + y is equal to the oxidation state of M; and wherein (i) L1 has a steric bulk sufficiently large such that, due to steric hinderance, x cannot be a value equal to the oxidation state of M, (ii) L2 has a steric bulk sufficiently small such that, due to lack of steric hinderance, y can be a value equal to the oxidation state of M only in the event that x is not a value of at least 1, and (iii) L1 and L2 have a steric bulk sufficient to maintain a heteroleptic structure in which x + y is equal to the oxidation state of M; a process for producing the organometallic compounds, and a method for producing a film or coating from organometallic precursor compounds.
(FR)L'invention concerne des composés organométalliques représentés par la formule (L1)XM(L2)y dans laquelle M représente un métal ou un métalloïde, L1 et L2 sont différents et représentent chacun un groupe hydrocarbure ou un groupe contenant un hétéroatome; x est au moins égal à 1; Y est au moins égal à 1; x + y correspond à l'état d'oxydation de M; et dans laquelle: (i) L1 présente un volume stérique suffisamment important de sorte que, en raison de l'encombrement stérique, la valeur de x ne peut être égale à l'état d'oxydation de M, (ii) L2 présente un volume stérique suffisamment faible de sorte que, en raison de l'absence d'encombrement stérique, la valeur de y peut être égale à l'état d'oxydation de M seulement dans le cas où la valeur de x n'est pas égale à au moins 1, et (iii) L1 et L2 présentent une masse stérique suffisante pour maintenir une structure hétéroleptique dans laquelle x + y est égal à l'état d'oxydation de M. Par ailleurs, l'invention concerne un procédé de production des composés organométalliques ainsi qu'un procédé de production d'un film ou d'un revêtement à partir de composés précurseurs organométalliques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)