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1. (WO2008038814) films d'adsorption polymÉriques et procÉdÉs de fabrication de ceux-ci
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/038814    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/069138
Date de publication : 03.04.2008 Date de dépôt international : 21.09.2007
CIB :
C09K 11/06 (2006.01), C08G 61/00 (2006.01), H01L 33/00 (2006.01), H01L 51/42 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (Tous Sauf US).
TANAKA, Kenta [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIGASHIMURA, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Toshihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TEMMA, Tomohisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKUSHIMA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TANAKA, Kenta; (JP).
HIGASHIMURA, Hideyuki; (JP).
TANAKA, Toshihiko; (JP).
TEMMA, Tomohisa; (JP).
FUKUSHIMA, Daisuke; (JP)
Mandataire : ENOMOTO, Masayuki; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited 5-33, Kitahama 4-chome Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5418550 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-260252 26.09.2006 JP
Titre (EN) POLYMERIC ADSORPTION FILMS AND PROCESSES FOR PRODUCING THESE
(FR) films d'adsorption polymÉriques et procÉdÉs de fabrication de ceux-ci
(JA) 高分子吸着膜及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A polymeric adsorption film which comprises a polymer comprising two or more charge-transporting blocks and a surface of a base, wherein any one of the charge-transporting blocks is preferentially adherent to the base surface; the polymeric adsorption film which comprises a polymer comprising two or more charge-transporting blocks and a surface of a base, wherein any one of the charge-transporting blocks other than the charge-transporting block preferentially adherent to the base surface is preferentially exposed; and a polymeric adsorption film which comprises a polymer and a base, wherein the polymer comprises two or more charge-transporting blocks and any one selected from the charge-transporting blocks is adherent to the base surface in preference to the other charge-transporting blocks.
(FR)La présente invention se rapporte à un film d'adsorption polymérique comprenant un polymère comportant au moins deux blocs de transfert de charge et une surface d'une base, l'un quelconque des blocs de transfert de charge adhérant de préférence à la surface de la base. Le film d'adsorption polymérique comprenant un polymère comportant au moins deux blocs de transfert de charge et une surface d'une base, l'un quelconque des blocs de transfert de charge autre que le bloc de transfert de charge adhérant de préférence à la surface de la base, est de préférence exposé ; et un film d'adsorption polymérique comprenant un polymère et une base, le polymère comportant au moins deux blocs de transfert de charge et l'un quelconque des blocs de transfert de charge sélectionné, adhère à la surface de la base de préférence aux autres blocs de transfert de charge.
(JA)2種以上の電荷輸送性ブロックを含む高分子と基材上とを含む高分子吸着膜であって、該電荷輸送性ブロックのいずれかが優先的に基材表面に付着している高分子吸着膜、2種以上の電荷輸送性ブロックを含む高分子と基材上とを含む高分子吸着膜であって、優先的に基材表面に付着している電荷輸送性ブロックとは異なる電荷輸送性ブロックのいずれかが優先的に露出している高分子吸着膜、または、高分子と基材とを含む高分子吸着膜であって、該高分子が2種以上の電荷輸送性ブロックを含み、該電荷輸送性ブロックから選ばれたいずれかの電荷輸送性ブロックがその他の電荷輸送性ブロックよりも優先的に基材表面に付着している高分子吸着膜を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)