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1. (WO2008038131) COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT ANTIRÉFLÉCHISSANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/038131    N° de la demande internationale :    PCT/IB2007/002876
Date de publication : 03.04.2008 Date de dépôt international : 24.09.2007
CIB :
G03F 7/09 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. [US/US]; 70 Meister Avenue, Somerville, NJ 08876 (US)
Inventeurs : ABDALLAH, David; (US).
DAMMEL, Ralph, R.; (US)
Données relatives à la priorité :
11/527,862 27.09.2006 US
Titre (EN) ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITIONS
(FR) COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT ANTIRÉFLÉCHISSANT
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a spin-on anti reflective coating composition for a photoresist comprising a polymer, a crosslinking compound and a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one functional moiety capable of increasing the refractive index of the anti reflective coating composition to a value equal or greater than 1.8 at exposure radiation used for imaging the photoresist and a functional moiety capable of absorbing exposure radiation used for imaging the photoresist. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating of the present invention.
(FR)La présente invention concerne une composition de revêtement antiréfléchissant à rotation pour une résine photosensible comprenant un polymère, un composé de réticulation et un générateur d'acide thermique, le polymère comprenant au moins un groupement fonctionnel capable d'augmenter l'indice de réfraction de la composition de revêtement antiréfléchissant jusqu'à une valeur supérieure ou égale à 1,8 à une radiation d'exposition servant à l'imagerie de la résine photosensible et un groupement fonctionnel capable d'absorber la radiation d'exposition servant à l'imagerie de la résine photosensible. L'invention concerne en outre un processus permettant d'imager le revêtement antiréfléchissant de la présente invention.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)