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1. (WO2008037959) PROCÉDÉ D'IMPLANTATION D'UN SUBSTRAT ET IMPLANTEUR IONIQUE POUR LA RÉALISATION DUDIT PROCÉDÉ

Pub. No.:    WO/2008/037959    International Application No.:    PCT/GB2007/003542
Publication Date: 3 avr. 2008 International Filing Date: 18 sept. 2007
IPC: H01J 37/317
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
SATOH, Shu
RYDING, Geoffrey
FARLEY, Marvin
SAKASE, Takao
KINDERSLEY, Peter
BANKS, Peter, M.
DOBSON, Matthew, P.
MURRELL, Adrian
Inventors: SATOH, Shu
RYDING, Geoffrey
FARLEY, Marvin
SAKASE, Takao
KINDERSLEY, Peter
BANKS, Peter, M.
DOBSON, Matthew, P.
MURRELL, Adrian
Title: PROCÉDÉ D'IMPLANTATION D'UN SUBSTRAT ET IMPLANTEUR IONIQUE POUR LA RÉALISATION DUDIT PROCÉDÉ
Abstract:
Selon l'invention, un implanteur permet le balayage bidimensionnel d'un substrat (17) par rapport à un faisceau d'implant (19), de manière que le faisceau trace une trame de lignes de balayage (35) sur le substrat. Le courant du faisceau est mesuré aux points de redressement (38) à partir du substrat et la valeur du courant est utilisée pour réguler la vitesse de balayage rapide subséquente, afin de compenser l'effet d'une quelconque variation du courant du faisceau sur l'uniformité de dose dans le sens du balayage lent. Le balayage peut produire une trame de lignes de balayage parallèles, espacées uniformément qui ne se recoupent pas et l'espacement entre les lignes est choisi pour assurer une uniformité de dose appropriée.