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1. WO2008035255 - PIÈGE À FAISCEAUX ET SON PROCÉDÉ DE RÉALISATION

Numéro de publication WO/2008/035255
Date de publication 27.03.2008
N° de la demande internationale PCT/IB2007/053694
Date du dépôt international 13.09.2007
CIB
H01L 31/0216 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
31Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails
02Détails
0216Revêtements
H01L 31/18 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
31Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails
18Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
G02B 5/00 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
CPC
G02B 5/003
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
003Light absorbing elements
H01L 31/02168
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
31Semiconductor devices sensitive to infra-red radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
02Details
0216Coatings
02161for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
02167for solar cells
02168the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
H01L 31/18
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
31Semiconductor devices sensitive to infra-red radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
Y02E 10/50
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
10Energy generation through renewable energy sources
50Photovoltaic [PV] energy
Déposants
  • MOSER BAER INDIA LTD. [IN]/[IN] (AllExceptUS)
  • MEINDERS, Erwin, R. [NL]/[NL] (UsOnly)
Inventeurs
  • MEINDERS, Erwin, R.
Mandataires
  • VALKONET, Rutger
Données relatives à la priorité
06120907.819.09.2006EP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) BEAM TRAP AND METHOD FOR MAKING A BEAM TRAP
(FR) PIÈGE À FAISCEAUX ET SON PROCÉDÉ DE RÉALISATION
Abrégé
(EN)
The invention is directed to a beam trap (10), particularly for improving the efficiency of a solar cell (12), comprising: a substrate (14) at least partially transmissive for the beams (16) and comprising a beam ingress surface (18) and a beam emission surface (20), and - a plurality of beam reflectors (22) arranged in the substrate (14), wherein each of the plurality of reflectors (22) comprises, in the direction from the beam ingress surface (18) to the beam emission surface (20), a cross section that first broadens and then narrows. Furthermore, the invention is directed to a method for making a beam trap (10), particularly a beam in accordance with the invention, wherein the method comprises the following steps: providing a stamper (24) with a plurality of stamping structures (26), wherein each of the plurality of stamping structures (26) comprises, in the direction of the stamper's normal vector (28), a cross section that first broadens and than narrows; providing a flexible substrate (14) at least partially transmissive for the beams (16); and using the stamper (24) to provide a relief structure (30) in the substrate (14).
(FR)
L'invention est orientée vers un piège à faisceaux (10), destiné en particulier à améliorer le rendement d'une cellule solaire (12), comprenant un substrat (14) transmettant au moins partiellement les faisceaux (16) et comprenant une surface d'entrée (18) de faisceaux et une surface d'émission (20) de faisceaux ainsi qu'une pluralité de dispositifs de réflexion (22) de faisceaux disposée dans le substrat (14), chacun de la pluralité de dispositifs de réflexion (22) comprenant, dans le sens allant de la surface d'entrée (18) de faisceaux vers la surface d'émission (20) de faisceaux, une section transversale qui effectue tout d'abord un élargissement puis un rétrécissement. En outre, l'invention est orientée vers un procédé de réalisation d'un piège à faisceaux (10), en particulier un faisceau conforme à l'invention, le procédé comprenant les étapes suivantes : utiliser une matrice (24) comportant une pluralité de structures de matriçage (26), chacune de la pluralité de structures de matriçage (26) comprenant, dans la direction du vecteur normal (28) à la matrice, une section transversale qui effectue tout d'abord un élargissement puis un rétrécissement, utiliser un substrat souple (14) transmettant au moins partiellement les faisceaux (16) et utiliser la matrice (24) pour procurer une structure en relief (30) dans le substrat (14).
Également publié en tant que
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