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1. (WO2008024607) APPAREIL DE DISTRACTION EXTENSIBLE D'APOPHYSE ÉPINEUSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/024607    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/075086
Date de publication : 28.02.2008 Date de dépôt international : 02.08.2007
CIB :
A61B 17/70 (2006.01)
Déposants : SUDDABY, Loubert [US/US]; (US)
Inventeurs : SUDDABY, Loubert; (US)
Mandataire : FALLOW, Charles; Shoemaker and Mattare, 10 Post Office Road, Suite 100, Silver Spring, MD 20910 (US)
Données relatives à la priorité :
60/823,595 25.08.2006 US
Titre (EN) EXPANDABLE SPINOUS PROCESS DISTRACTOR
(FR) APPAREIL DE DISTRACTION EXTENSIBLE D'APOPHYSE ÉPINEUSE
Abrégé : front page image
(EN)An expandable device is positioned surgically between spinous processes, permitting the incremental distraction of posterior spinal elements when the device is filled with a hardenable material.
(FR)L'invention concerne un appareil extensible placé chirurgicalement entre des apophyses épineuses et permettant la distraction incrémentale d'éléments vertébraux postérieurs lorsque l'appareil est rempli d'un matériel durcissable.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)