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1. (WO2008023205) PROCÉDÉ DE FABRICATION DU HI-6 DIMÉTHANESULFONATE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/023205    N° de la demande internationale :    PCT/GB2007/050503
Date de publication : 28.02.2008 Date de dépôt international : 22.08.2007
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.02.2008    
CIB :
C07D 213/53 (2006.01)
Déposants : PHOENIX CHEMICALS LIMITED [GB/GB]; 34 Thursby Road, Croft Business Park, Bromborough Wirral CH62 3PW (GB) (Tous Sauf US).
EDDOLLS, Jonathan [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
MCCORMACK, Peter [IE/GB]; (GB) (US Seulement).
HODGSON, Anne [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : EDDOLLS, Jonathan; (GB).
MCCORMACK, Peter; (GB).
HODGSON, Anne; (GB)
Mandataire : W.P. THOMPSON & CO.; 55 Drury Lane, London WC2B 5SQ (GB)
Données relatives à la priorité :
0616865.2 25.08.2006 GB
Titre (EN) PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF HI-6 DIMETHANESULFONATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DU HI-6 DIMÉTHANESULFONATE
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a process for the manufacture of Hl 6 dimethanesulfonate comprising contacting an O-protected pyridine aidoxime compound with bis(methylsulphonoxymethyl) ether in a suitable solvent to form an intermediate compound, contacting said intermediate compound with isonicotinamide to form an O-protected HI 6 product precursor, and de- protecting the precursor to form HI 6 dimethanesulfonate.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication du HI-6 diméthanesulfonate comportant les opérations consistant à mettre en contact un composé pyridine aldoxime O-protégé avec du bis(méthylsulfonoxyméthyl)éther dans un solvant approprié pour former un composé intermédiaire ; à mettre en contact ledit composé intermédiaire avec de l'isonicotinamide pour former un précurseur de produit HI-6 O-protégé ; et à dé-protéger le précurseur pour former le HI 6 diméthanesulfonate.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)